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光刻机&3D打印机
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- 德国SUSS
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- 激光微加工设备
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镀膜沉积机
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离子刻蚀与沉积
匀胶涂覆机
半导体辅助设备
半导体微纳检测仪器
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- 美国Filmetrics膜厚测量仪
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- 美国MMR霍尔效应测量仪
- X 射线多晶衍射仪
- XRD X射线衍射仪
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实验检测仪器
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- MPMS3最新一代磁学测量系统
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紫外清洗等离子清洗机
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太阳能检测仪
德国YXLON 检测仪
德国Netzsch
Rion 液体光学颗粒度仪
液体光学颗粒度仪
奥地利EVG光刻杨键合机压印机
尼康Nikon光刻机
德国Lecia 切片掩膜一体机
日本Elionix
化学开封机 / 激光开封机
光刻胶/硅片
半导体辅助工艺/光刻胶
日立Hitachi
UV灯
已选条件
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URE-2000/34AL型紫外光刻机
URE-2000/34AL型光刻机,曝光分辨率: 0.8μm-1μm ,套准精度:±0.8-1μm$r$n$r$n
价 格:¥电议型 号:URE-2000/34AL型产 地:中国大陆
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HBO350W/S,HBO5000W/S,HBO200W/DC,HBO1000W/DSUSS光刻机用曝光灯HBO系列
SUSS苏斯/休斯,EVG, OAI等系列光刻机用曝光灯HBO系列,$r$nSUSS苏斯,EVG, OAI公司生产的半导体和太阳能行业用光刻机,目得到业界的广泛认同,该系列光刻机曝光系统的曝光灯,主要是由德国欧司朗及日本牛尾公司生产的曝光灯进行配套供应。欧司朗/牛尾曝光灯系列,具备良好的光通量,稳定的光强度以及优质的品质受到业界的青睐。
价 格:¥电议型 号:HBO350W/S,HBO5000W/S,HBO200W/DC,HBO1000W/D产 地:中国大陆
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P140/S140中国nanoArch科研3D打印机
nanoArch 3D打印机P140/S140 ,科研3D打印系统,拥有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印层厚,从而实现超高精度的样件制作,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
价 格:¥电议型 号:P140/S140产 地:中国大陆
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P130/S130中国nanoArch科研3D打印机
nanoArch微纳3D打印机 P130/S130 ,科研3D打印系统,拥有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印层厚,从而实现超高精度的样件制作,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
价 格:¥电议型 号:P130/S130产 地:中国大陆
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M160中国nanoArch科研3D打印机
nanoArch科研3D打印机M160 ,本套系统创新地使用了自动化的多材料送料系统,兼顾高精度和多材料打印,可支持同时打印4种树脂基复合材料进行层间或层内多材料3D打印,适用于基础理论验证及原理创新研究,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。其主要应用在点阵结构材料、功能梯度材料、超材料、复合材料、复杂微流控,多材料4D打印等方面。
价 格:¥电议型 号:M160产 地:中国大陆
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NanoFrazor 3D瑞士纳米结构高速直写机机
瑞士NanoFrazor 3D纳米结构高速直写机,源于发明STM和AFM的IBM苏黎世研发中心,是其在纳米加工技术的新研究成果。NanoFrazor纳米3D结构直写机第 一次将纳米尺度下的3D结构直写工艺快速化、稳定化。
价 格:¥电议型 号:NanoFrazor 3D产 地:欧洲
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OAI 800 MBA美国OAI光刻机
OAI 800型光学正面和背面光刻机系统, 是半自动,four-camera、光学正面和背面光刻机。它提供其精确的(1碌m - 2 m碌)对准精度,旨在大大超过任何红外背后对准器性能的一个非常有竞争力的价格。通用模型800光刻机是理想的用于低产量、研发实验室和大学。
价 格:¥电议型 号:OAI 800 MBA产 地:美洲
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绿光纳钻孔设备Standard Drilling Machine绿光纳钻孔设备
玻璃去油墨设备,采用订制紫外纳激光器对玻璃表面进行去油墨以及油墨微加工, 将产品损伤降至低。
价 格:¥电议型 号:绿光纳钻孔设备Standard Drilling Machine产 地:中国大陆
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全自动双X/Y平台玻璃切割机Automatic Cutting Machine全自动双X/Y平台玻璃切割机
全自动双X/Y平台玻璃切割机,用红外皮激光器,保证完美光束质量,光斑细,切割精度高
价 格:¥电议型 号:全自动双X/Y平台玻璃切割机Automatic Cutting Machine产 地:中国大陆
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蓝宝石精密切割裂片机Sapphire Material Cutting Machine蓝宝石精密切割裂片机
蓝宝石精密切割裂片机,采用红外皮激光器,保证完美光束质量,光斑细,切割精度高。
价 格:¥电议型 号:蓝宝石精密切割裂片机Sapphire Material Cutting Machine产 地:中国大陆
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玻璃切割倒角切割机Glass Chamfering Machine玻璃切割倒角切割机
玻璃切割倒角切割机Glass Chamfering Machine,可兼容振镜和聚焦头两种裂片方式,兼容多款国内外激光器型号,可添加CCD定位等功能模块,高速XY运动平台,大程度提升加工速度,可对玻璃侧边倒圆角和C角
价 格:¥电议型 号:玻璃切割倒角切割机Glass Chamfering Machine产 地:中国大陆
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脆材标准切割裂片机Standard Glass Filamentation System脆材标准切割裂片机
脆材标准切割裂片机,采用红外皮激光器,保证完美光束质量,光斑细,切割精度高。
价 格:¥电议型 号:脆材标准切割裂片机Standard Glass Filamentation System产 地:中国大陆
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EVG720奥地利EVG紫外纳米压印系统
EVG720紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG720自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。
价 格:¥电议型 号:EVG720产 地:欧洲
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HERCULES NIL奥地利EVG紫外纳米压印系统
EVG的HERCULES NIL 300 mm是一个完全集成的纳米压印系统,是EVG的NIL产品组合的新成员。 HERCULES NIL基于模块化平台,在单个平台上将清洗模块,抗蚀剂涂层模块和烘烤预处理模块与EVG的有SmartNIL大面积纳米压印(NIL)模块结合在一起,用于直径大为300 mm的晶片。
价 格:¥电议型 号:HERCULES NIL产 地:中国大陆
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EVG620奥地利EVG单双面光刻机(带有压印功能)
EVG620 单面/双面光刻机(带有压印功能),EVG620 是一款非常灵活和可靠的光刻设备,可配置为半自动也可以为全自动形式。EVG620 既可以用作双面光刻机也可以用作 150mm 硅片的精确对准设备;既可以用作研发设备,也可以用作量产设备。精密的契型补偿
价 格:¥电议型 号:EVG620产 地:欧洲
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EVG510IS奥地利EVG键合机
EVG520IS是一款设计用于小批量生产的半自动晶圆键合系统, 大硅片允许尺寸为200mm。集EVG新技术及客户反馈基础上设计的EVG520IS,配备了EVG公司的利吸盘设计---这种吸盘可以提供对称的快速加热和冷却功能。EVG520IS的很多优势特性,如独立的上下盘加热和高压键合工艺、高度的材料和工艺灵活性等,都帮助客户很好的实施键合研究和生产。
价 格:¥电议型 号:EVG510IS产 地:欧洲
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EVG510奥地利EVG键合机
奥地利EVG键合机:EVG510,是一款半自动晶圆键合系统,可以处理大200mm的晶圆,非常适合于研发和小批量生产。EVG510提供了除上料和下料外的全自动工艺处理过程,并配备了业界公认的优异的加热和压力均匀性系统。EVG510模块化的键合腔室设计可用于150mm或200mm晶圆键合,并且其工艺菜单与EVG其他更高系列的键合机相匹配,可以方便的实现从实验线到量产线的工艺复制。
价 格:¥电议型 号:EVG510产 地:欧洲
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EVG7200奥地利SmartNIL紫外纳米压印
奥地利SmartNIL紫外纳米压印:EVG7200,LEDS 制作,LED PSS纳米压印工艺,LED纳米透镜阵列;微流体学;芯片实验室;抗反射层; 纳米压印光栅; 莲花效应;光子带隙;光学及通讯:光晶体,激光器件;生物技术解决方案:医药分析,血液分析,细胞生长。$r$n$r$n
价 格:¥电议型 号:EVG7200产 地:欧洲
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DC4000俄罗斯Optosystems准分子激光器
俄罗斯Optosystems准分子激光器DC4000,非常高的重复频率高达6千赫,高平均功率达160w,金属陶瓷设计,使用寿命长,能量稳定性好特性,HV固态开关,功率稳定,计算机控制,应用:材料加工,激光剥离
价 格:¥电议型 号:DC4000产 地:欧洲