半导体微纳检测仪器(第1页)_深圳市蓝星宇电子科技有限公司

自动进样稀释模块ASDM

自动进样稀释模块ASDM专为ICP自动进样器设计，支持2至1000倍的样品溶液稀释，配备两种型号以适应不同溶液类型。该模块可自动添加标准溶液，并能同时清洗稀释探头及准备下一个稀释样品。ASDM提供10ml注射器进行2-20倍稀释，或两支注射器进行50-1000倍稀释。

价格：￥电议型号：产地：日本
自动化标准添加系统 ASAS II

ASAS II自动化标准添加系统通过自动制备校准标准溶液，提升了电感耦合等离子体（ICP）分析的效率与精度。该系统采用非接触式光流传感器和高精度注射泵，实现微量标准溶液的精准添加。其无阀门设计及全氟聚合物材质确保了系统的高效与耐用性。

价格：￥电议型号：产地：日本
气体电离探测器GED

气体电离探测器（GED）是一种用于测量气体中金属颗粒浓度的技术，尤其适用于半导体行业中特殊气体的分析。该系统通过一个高效的膜来交换气体，使得样品气体中的金属颗粒能在无需预处理的情况下直接引入到电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）中进行高灵敏度分析。

价格：￥电议型号：产地：日本
连续化学采样检测系统CSI

化学分析实验室采用连续化学采样检测系统（CSI）监测半导体工艺中的化学品，以检测微量金属杂质。该系统使用电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）进行24/7的连续监测，确保化学品在运输和更换过滤器过程中不受污染。在线接口软件（OIS）控制阀门、自动进样器和ICP-MS，实现自动校准和质量控制。该系统能够生成浓度和计数趋势图，并具备自动重新分析功能。

价格：￥电议型号：产地：日本
连续化学品检测系统 CSI

CSI 连续化学品检测系统：化学敏感仪器监测半导体晶圆厂使用的化学物质，通过连续化学采样检测（CSI）系统监测微量金属杂质，以避免器件故障。系统采用电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）对化学品进行24/7的连续监测，包括液相（LT）和气溶胶相（AT）两种样品运输方式。L

价格：￥电议型号：产地：日本
金属标准气雾剂生成系统 MSAG

MSAG金属标准气雾剂生成系统，是一种用于纳米颗粒分析及直接气体分析的重要工具，尤其适用于电感耦合等离子体质谱法（ICP-MS）。该设备能够以0至3μL/min的速度将混合金属标准溶液引入雾化器，确保了高灵敏度和准确性。通过MSGG装置监测ICP-MS灵敏度变化，并利用钼气态标准作为内标。

价格：￥电议型号：产地：日本
激光剥蚀多通道原子吸收光谱系统LAGM

LAGM激光剥蚀多通道原子吸收光谱系统采用飞秒激光和电流计镜，可精确烧蚀 300 毫米晶圆样品，无需小型封闭腔室。系统配备双注射器模型 MSAG_DS，支持标准加入法进行定量分析，具备点和面倾斜度、轮廓及杂质分析功能。系统能全自动操作，支持多种分析模式如全扫描、斑点、直线、块模式及深度剖面模式，适用于晶圆和非晶圆样品的全面分析。

价格：￥电议型号：产地：日本
硅片金属杂质分析系统 Expert

硅片金属杂质分析系统 Expert,全自动汽车扫描系统与真空二次离子质谱法（VPD-ICP-MS）结合，为硅片金属杂质分析提供了高效的解决方案。系统具备多个型号，包括适用于实验室和工厂自动化的Expert_LAB、Expert_PS和Expert_FAB。这些系统支持多种扫描模式，如全扫描、径向扫描和倾斜扫描，可实现从大容量蚀刻到深度轮廓测量的全面分析。

价格：￥电议型号：产地：日本
WaferX 310Rigaku X射线荧光分析仪

日本Rigaku X射线荧光分析仪 WaferX 310, 通过X射线以大角度照射在镀膜的硅片样品上,产生镀膜样品的相应特征X射线的方法，进而分析测量硅片样品的镀膜厚度。

价格：￥电议型号：WaferX 310产地：日本
FF35 CT德国YXLON多用途高分辨率CT系统

德国YXLON多用途高分辨率CT系统FF35 CT,微焦点、纳米焦点双射线源配置，大限度提高多功能性$r$n$r$n • 单或双射线源配置，可大限度提高 CT 应用多功能性$r$n$r$n

价格：￥电议型号：FF35 CT产地：欧洲
HMS-5000/HMS-5500全自动变温霍尔效应测试仪

型号：HMS-5000 / HMS-5500$r$n生产商：ECOPIA Corp.$r$n(80K-350K，常温-773K)

价格：￥电议型号：HMS-5000/HMS-5500产地：其它
InSEM HT美国KLA 原位高温纳米力学测试系统，纳米压痕仪

美国KLA InSEM HT原位高温纳米力学测试系统，纳米压痕仪，样品加温可达800 ℃，样品尺寸可达10MM，装样系统与真空环境兼容

价格：￥电议型号：InSEM HT产地：美洲
HMS-5300LTH韩国Ecopia 全自动变温霍尔效应测试仪

韩国Ecopia 全自动变温霍尔效应测试仪 HMS-5300LTH,温度范围：80k-573k,测量材料Si, SiGe, SiC, GaAs, InGaAs, InP, GaN, TCO(including ITO),AlZnO, FeCdTe, ZnO 等所有半导体薄膜(P 型和 N 型)；$r$n

价格：￥电议型号：HMS-5300LTH产地：其它
HMS-7000韩ECOPIA变温光霍尔效应测试仪

韩ECOPIA 变温光霍尔效应测试仪 HMS-7000，可以通过改变照射在样品上的不同波长范围的光源（红、绿、蓝光源），得出载流子浓度、迁移率、电阻率及霍尔系数等半导体电学重要参数随光源强度变化的曲线。$r$n$r$n

价格：￥电议型号：HMS-7000产地：其它
COUGAR EVO德国YXLON 定制化的紧凑型标准X射线检测系统

德国YXLON 定制化的紧凑型标准X射线检测系统COUGAR EVO ，为封装检测、半导体及实验室应用量身定制$r$n$r$n

价格：￥电议型号：COUGAR EVO产地：欧洲
CHEETAH EVO德国YXLON 定制化的标准X射线检测系统

德国YXLON 定制化的标准X射线检测系统CHEETAH EVO，为封装检测、半导体及实验室应用量身定制、$r$n$r$n

价格：￥电议型号：CHEETAH EVO产地：欧洲
VK-X3000基恩士KEYENCE形状测量激光显微系统

KEYENCE 基恩士形状测量激光显微系统全新 VK-X3000，纳米 / 微米 / 毫米，一台即可完成测量。292 种分析工具，一台即可了解希望获取的信息。一台即包含了光学显微镜，台阶仪，光学轮廓仪，及电镜功能。

价格：￥电议型号：VK-X3000产地：日本
EM TXP德国Leica 全新精研一体机

德国Leica EM TXP全新精研一体机，是一款独特的可对目标区域进行精确定位的表面处理工具，特别适合于SEM，TEM及LM观察之对样品进行切割、抛光等系列处理。它尤其适合于制备高难度样品，如需要对目标精细定位或需对肉眼难以观察的微小目标进行定点处理。$r$n

价格：￥电议型号：EM TXP产地：欧洲
DektakXT布鲁克台阶仪-探针式表面轮廓仪

布鲁克 DektakXT 台阶仪（探针式表面轮廓仪）设计创新，实现了更高的重复性和分辨率，垂直高度重复性高达 5Å。第十代 DektakXT台阶仪（探针式表面轮廓仪）的技术突破，实现了纳米尺度的表面轮廓测量，从而可以广泛的应用于微电子器件，半导体，电池，高亮度发光二管的研发以及材料科学域。$r$n

价格：￥电议型号：DektakXT产地：中国大陆
Contour X-200布鲁克Bruker 三维光学轮廓仪

布鲁克Bruker ContourX-200 三维光学轮廓仪，灵活的台式表面形貌测量设备$r$n

价格：￥电议型号：Contour X-200产地：欧洲

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