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LSC-4000美Nano-master 大基片清洗机
$r$n$r$n美Nano-master 大基片清洗机 Large Substrate Cleaning :LSC-4000 是一款独立式清洗机,使用计算机控制,大可支持外径21”的基片。$r$n$r$n
价 格:¥电议型 号:LSC-4000产 地:美洲
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SWC-3000,SWC-4000, SWC-5000美NANO-MASTER SWC单晶圆清洗系统
美NANO-MASTER SWC单晶圆清洗系统$r$n$r$nSWC-3000 台式单晶圆/掩膜版清洗系统$r$n$r$nSWC-4000 立柜式单晶圆/掩膜版清洗系统$r$n$r$nSWC-5000 带25片Cassette 机械手自动清洗$r$n$r$n$r$n$r$n$r$nNRT-4000 独
价 格:¥电议型 号:SWC-3000,SWC-4000, SWC-5000产 地:美洲
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NRT-3500, NRT-4000美NANO-MASTER RTP快速退火炉
美NANO-MASTER RTP快速退火炉$r$n$r$nNRT-3500 紧凑型独立式全自动RTP系统$r$n$r$nNRT-4000 独立式全自动RTP系统$r$n$r$nNRT-4000 独立式大批量RTP系统$r$n$r$n$r$n$r$nNIR-4000 独立式 IBE / RIE 双刻蚀系统$r$n$r$nNIE-3000 台式 IBE 刻蚀系统NSC-3000可支持多4个靶的DC溅射或RF溅射$r$n$r$n
价 格:¥电议型 号:NRT-3500, NRT-4000产 地:美洲
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NNDT-4000美Nano-master 热真空太空模拟系统
美Nano-master 热真空太空模拟系统 NDT-4000,是一款器件测试系统,俗称“热真空系统”,可以用于真空和可控的均匀加热以及冷却循环条件下的器件或样片测试。
价 格:¥电议型 号:NNDT-4000产 地:美洲
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NRR-4000, NRE-4000, NRE-3000, NDR-4000美Nano-master RIE反应离子刻蚀系统
美Nano-master RIE反应离子刻蚀系统$r$n$r$nNRR-4000 独立式双RIE或ICP刻蚀系统$r$n$r$nNRE-4000 独立式RIE或ICP系统$r$n$r$nNRE-3000 台式RIE系统$r$n$r$nNDR-4000 深硅刻蚀系统
价 格:¥电议型 号:NRR-4000, NRE-4000, NRE-3000, NDR-4000产 地:美洲
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NLD-4000,NLD-3500,NLD-3000美Nano-master ALD/PEALD原子层沉积系统
美Nano-master ALD/PEALD原子层沉积:$r$n$r$nNLD-4000 独立式ALD系统$r$n$r$nNLD-3500 紧凑型独立式ALD系统$r$n$r$nNLD-3000 台式ALD系统
价 格:¥电议型 号:NLD-4000,NLD-3500,NLD-3000产 地:美洲
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NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000,NIE-3000美Nano-master等离子清洗/灰化系统
NANO-MASTER等离子清洗和灰化系统设计用于广泛的需求,从批处理和单晶圆的光刻胶剥离到晶圆表面改性都可以涵盖。这些系统通过计算机控制,可以配套不同的等离子源,加热和不加热的基片夹具,以及独一无二的从等离子刻蚀切换到RIE刻蚀模式的能力。$r$n$r$n$r$n$r$n$r
价 格:¥电议型 号:NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000,NIE-3000产 地:美洲
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NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000,NIE-3000美NANO-MASTER IBM离子铣/IBE离子束刻蚀系统
IBM离子铣/IBE离子束刻蚀系统:$r$n$r$nNIE-4000 独立式 IBE 刻蚀系统$r$n$r$nNIE-3500 紧凑型独立式 IBE 刻蚀系统$r$n$r$nNIR-4000 独立式 IBE / RIE 双刻蚀系统$r$n$r$nNIE-3000 台式 IBE 刻蚀系统NSC-3000可支持多4个靶的DC溅射或RF溅射$r$n$r$n
价 格:¥电议型 号:NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000,NIE-3000产 地:美洲
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NEE-4000美NANO-MASTER电子束蒸镀系统
NANO-MASTER电子束蒸镀系统 NEE-4000,可通过样片掩膜实现组合蒸镀,并可通过电脑控制单个电子束蒸镀的蒸镀速率。系统可支持共蒸镀功能。能够升支持自动上下片,以及手动或自动翻转样片实现双面镀膜。该系列的E-Beam电子束蒸镀系统,也可以跟磁控溅射
价 格:¥电议型 号:NEE-4000产 地:美洲
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NPE-4000NANO-MASTER的等离子增强化学气相沉积系统PECVD系统
NANO-MASTER的等离子增强化学气相沉积系统PECVD系统NPE-4000,可以制造高质量的氧化硅、氮化硅、碳纳米管、金刚石和碳化硅等薄膜。基板可以容纳8英寸晶圆,可通过射频、脉冲直流或者直流电源提供偏压,可通过热电阻或者红外灯加热到800°C。$r$nNS
价 格:¥电议型 号:NPE-4000产 地:中国大陆
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NSC-4000,NSC-3500,NSC-3000,NSC-1000美Nano-master磁控溅射系统
美Nano-master磁控溅射系统:$r$n$r$nNSC-4000独立式磁控溅射系统,可支持共溅射等能力的扩展$r$n$r$nNSC-3500紧凑型独立式热蒸镀,可以支持金属材料的DC溅射,介质材料的RF溅射,以及脉冲DC溅射等应用。$r$n$r$nNSC-3000可支持多4个靶的DC溅射或RF溅射$r$n$r$nNSC-1000单金靶靶材的台式溅射系统,不但可用于电镜制备,也可以用于常规的金属溅射
价 格:¥电议型 号:NSC-4000,NSC-3500,NSC-3000,NSC-1000产 地:美洲
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NTE-4000,NTE-3500,NTE-3000,NTE-1000美Nano-master热蒸镀系统
美Nano-master热蒸镀系统:NTE-4000 独立式电子束蒸镀,NTE-3500 紧凑型独立式热蒸镀,NTE-3000 双蒸源台式热蒸镀系统,NTE-1000 简便型热蒸镀。热蒸镀系统可以跟NANO-MASTER那诺-马斯特的其它任意真空系统组成双系统。
价 格:¥电议型 号:NTE-4000,NTE-3500,NTE-3000,NTE-1000产 地:美洲
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NLD-4000美Nano-master 原子沉积机
Nano-master NLD-4000 是一款独立式计算机控制的ALD系统,全自动工艺控制并包含完整的安全连锁功能,能够沉积半导体应用中的氧化物和氮化物(比如AlN, GaN, TaN, TiN, Al2O3, ZrO2, LaO2, HfO2),支持太阳能和MEMS等众多域的应用
价 格:¥电议型 号:NLD-4000产 地:美洲