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光刻机&3D打印机
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Rion 液体光学颗粒度仪
液体光学颗粒度仪
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半导体辅助工艺/光刻胶
日立Hitachi
UV灯
已选条件
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P130/S130中国nanoArch科研3D打印机
nanoArch微纳3D打印机 P130/S130 ，科研3D打印系统，拥有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印层厚，从而实现超高精度的样件制作，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
价 格：￥电议型 号：P130/S130产 地：中国大陆
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M160中国nanoArch科研3D打印机
nanoArch科研3D打印机M160 ，本套系统创新地使用了自动化的多材料送料系统，兼顾高精度和多材料打印，可支持同时打印4种树脂基复合材料进行层间或层内多材料3D打印，适用于基础理论验证及原理创新研究，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。其主要应用在点阵结构材料、功能梯度材料、超材料、复合材料、复杂微流控，多材料4D打印等方面。
价 格：￥电议型 号：M160产 地：中国大陆
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OAI 800 MBA美国OAI光刻机
OAI 800型光学正面和背面光刻机系统, 是半自动,four-camera、光学正面和背面光刻机。它提供其精确的(1碌m - 2 m碌)对准精度,旨在大大超过任何红外背后对准器性能的一个非常有竞争力的价格。通用模型800光刻机是理想的用于低产量、研发实验室和大学。
价 格：￥电议型 号：OAI 800 MBA产 地：美洲
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Model 6020S美国OAI紫外光刻机
OAI的面板掩模光刻机 Model 6020S, 用于FOPLP型号6020S -半自动化或自动化,实现500mm x 500mm 晶圆尺寸的FO-PLP加工.
价 格：￥电议型 号：Model 6020S产 地：美洲
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Model 6000美国OAI紫外光刻机
OAI 掩膜光刻机 Model 6000型，高吞吐量180 wph，灵活处理基板从2“平方到12”平方
价 格：￥电议型 号：Model 6000产 地：美洲
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Model 800E美国OAI掩模对准系统
OAI Model 800E 型掩模对准系统，各种光谱范围选项:Hg灯:G(436nm),H(405nm)， I(365nm)和310nm线，Hg-Xe灯:260nm和220nm
价 格：￥电议型 号：Model 800E产 地：美洲
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Model 212美国OAI紫外光刻机
OAI Model 212型桌面掩模对准系统, 输出光谱范围:Hg: G(436nm),H(405nm),I(365nm)和310nm,Hg-Xe: 260 nm和220 nm或LED:365 nm、395 nm和405 nm
价 格：￥电议型 号：Model 212产 地：美洲
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OAI 200美国 OAI 光刻机 Model 200 型桌面掩模对准器系统
美国 OAI 光刻机 Model 200 型桌面掩模对准器系统，完全手工操作，输出光谱范围:Hg: G(436海里),H(405海里),I(365nm)和310nm线，Hg-Xe: 260nm和220nm或LED: 365nm, 395nm, 405nm
价 格：￥电议型 号：OAI 200产 地：美洲
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OAI 6000 FSA全自动上侧或后侧光刻机
OAI 6000 FSA 全自动上侧或后侧光刻机,具有完全自动化的亚微米分辨率的顶侧或背侧对齐，提供无与伦比的性价比。
价 格：￥电议型 号：OAI 6000 FSA产 地：美洲
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Model 200美国 OAI 实验室用手动曝光机
$r$nOAI 200型光刻机是一种具有成本效益的高性能掩模对准器，采用经过行业验证的组件，使OAI成为光刻设备行业的导者。 200型是台式面罩对准器，需要小的洁净室空间。它为研发，或有限规模，试点生产提供了经济的替代方案。利用创新的空气轴承/真空吸盘调平系统，衬底快速平稳地平整，用于平行光掩模对准和在接触曝光期间在晶片上的均匀接触。该系统能够实现一微米分辨率和对准精度。
价 格：￥电议型 号：Model 200产 地：美洲
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800MBA美国 OAI 型光学正面和背面光刻机系统
$r$n2012SM型自动边缘曝光系统为使用标准阴影掩模技术的边缘珠去除提供了一种经济高效的方法。 设计用于容纳8“到300mm的晶片，该工具具有自动FOUP装载。 掩模和基材切换可以快速且容易地实现，从而增加该生产工具的通用性和高产量。
价 格：￥电议型 号：800MBA产 地：美洲
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2012SM美国 OAI 自动化边缘曝光系统
$r$n2012SM型自动边缘曝光系统为使用标准阴影掩模技术的边缘珠去除提供了一种经济高效的方法。 设计用于容纳8“到300mm的晶片，该工具具有自动FOUP装载。 掩模和基材切换可以快速且容易地实现，从而增加该生产工具的通用性和高产量。
价 格：￥电议型 号：2012SM产 地：美洲
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2000SM,2000AF美国 OAI 边缘曝光系统
两种型号的2000型曝光系统包括UV光源，强度控制电源和机器人衬底处理子系统。 UV光源提供发散半角<2.0％的可调强度光束。电源从200W到2,000W。强度控制器传感器直接连接到光源，用于精确的强度监控。机器人衬底处理系统是微处理器控制的，并且可以被编程以适应各种各样的衬底尺寸。
价 格：￥电议型 号：2000SM,2000AF产 地：美洲
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5000E美国 OAI 光刻机
OAI 5000E型大面积掩光刻机是一种先进的高性能，全自动掩模对准器和曝光工具，可为大型平板应用提供超精密，顶，亚微米对准和分辨率。 其灵活的设计允许在各种基材（圆形或方形）上印刷高达300mm或20“×20”。 曝光系统兼容近，中，或深紫外范围的光刻胶，并具有计算机控制的LED显微镜照明，在不太理想的观察环境中观察。
价 格：￥电议型 号：5000E产 地：美洲
