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光刻机&3D打印机
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离子刻蚀与沉积
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Rion 液体光学颗粒度仪
液体光学颗粒度仪
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光刻胶/硅片
半导体辅助工艺/光刻胶
日立Hitachi
UV灯
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产品分类
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AZ1500(1505,1518,1529,1514H,1512HS,1518HS)AZ-i线光刻胶
AZ 光刻胶 AZ1500 系列，其中型号AZ1500(1505,1518,1529,1514H,1512HS,1518HS)
价 格：￥电议型 号：AZ1500(1505,1518,1529,1514H,1512HS,1518HS)产 地：欧洲
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AR-PC5090；AR-PC5091德国ALLRESIS导电胶
德国ALLRESIST防护涂层PMMA Electra 92 (AR-PC 5090)$r$n用于非氮基电子束电阻的导电保护涂层$r$n用于在绝缘衬底上耗散电子束电荷的顶层
价 格：￥电议型 号：AR-PC5090；AR-PC5091产 地：欧洲
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SU-8 2025,SU-8 2035,SU-8 2050,SU-8 2075microchem永久性环氧负性光刻胶
microchem 光刻胶SU-8 2000 永久性环氧负性光刻胶:SU-8 2025,SU-8 2035,SU-8 2050,SU-8 2075，SU-8 2000有12种标准粘度可供选择。薄膜厚度0.5到>200微米,可以通过一个单一的涂层工艺实现。
价 格：￥电议型 号：SU-8 2025,SU-8 2035,SU-8 2050,SU-8 2075产 地：欧洲
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AR-P617电子束光刻胶
德国Allresist 正电子束光刻胶 AR-P 610系列$r$n用于纳米光刻的 AR - P617电子束电阻$r$n共聚物抗蚀剂系列用于生产集成电路和掩模
价 格：￥电议型 号：AR-P617产 地：欧洲
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AR-P 6200正电子束光刻胶
英国Allresist 正电子束光刻胶 AR-P 6200 (CSAR 62)，高分辨率，用于生产集成电路和掩模的高对比度电子束电阻。
价 格：￥电议型 号：AR-P 6200产 地：欧洲
