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光刻机&3D打印机
- 德国Nnaoscrib
- 德国Heidelberg
- 德国Zeiss
- 德国Eulitha
- 瑞士Swisslitho AG
- 瑞典Mycronic
- 英国Durham
- 英国Nanobean
- NanoArch
- 德国SUSS
- 德国ParcanNano 百及纳米针尖电子束光刻系统
- 英国AML晶圆键合机
- 瑞士 NnaoFrazor 光刻机
- 激光微加工设备
- 奥地利EVG紫外纳米压印系统
- 尼康Nikon光刻机
- Elinoix 电子束光刻机
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镀膜沉积机
- 德国Iplas
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- 美国Denton Vacuum
- 英国Quorum涡轮分子泵抽真空镀膜仪
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- 英国Oxford Vacuum
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离子刻蚀与沉积
匀胶涂覆机
半导体辅助设备
半导体微纳检测仪器
- 德国Zeiss扫描电镜
- 德国KSI超声波扫描显微镜
- 德国Mecwins扫描式激光分析仪
- 美国Nanovea三维表面形貌仪
- 德国Sentech薄膜测量仪/光伏测量仪
- 德国Klocke Nanotech 3D纳米级三维测量仪
- 德国YXLON 高分辨率Ｘ射线检测设备
- 瑞士Nanosurf 原子力显微镜
- 日本Ribm原子力显微镜
- 日本AND粒子计数器
- 日本JEOL显微镜
- 德国Bruker光谱仪/显微镜/台阶仪
- 韩国Ecopia美国MMR霍尔效应测试仪
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- 美国Sonix超声波扫描显微镜
- 美Royce拉力性能测试及芯片拾取放置
- 美国Filmetrics膜厚测量仪
- 美国RTI自动特性图示仪
- 美国TEX Keithley半导体参数分析仪
- 美国MMR霍尔效应测量仪
- 日本 IAS 化学检测分析系统
- X 射线多晶衍射仪
- XRD X射线衍射仪
- FEI扫描电镜Thermo光谱仪
- 纳米压痕仪
- 少子寿命测试仪
- 德国neaspec纳米级红外光谱仪
实验检测仪器
- 电子元器件水份分析仪
- 德YXLON CT检测
- ADLEMA 检漏机
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- 粒子碰撞噪声检测仪
- 德国Attocube 显微镜
- LakeShore 振动样品磁强计
- 英Glovebox 手套箱
- 美OAI 光功率计
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- 美Microsense 磁克尔效应测量系统
- nanosc 高精度铁磁共振仪
- 法Alyxan 高分辨质子传递反应质谱
- 振动样品磁强计
- 超精细多功能无液氦低温光学恒温器
- 日本Tohuko 超高灵敏度材料氧化分析仪
- 纳米压痕仪
- Thorlabs傅立叶红外光谱仪
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- 光学式坐标测量仪
- 氟油检漏仪
- 接触角测量仪
- 美Associated 耐压测试仪
- 德国Moeller 测角仪
- 德国耐驰Netzsch
- Bruker 手持拉曼光谱仪
- Super-ME-II多铁性磁电测量系统
- 德Attocube低温强磁场原子力/磁力显微镜
- OptoCool 超精准全开放强磁场低温光学研究平台
- Neaspec 德国真空太赫兹近场光学显微镜
- 纽迈核磁共振分业析
- Oxford pulsar 实验室智能核磁共振波谱仪
- DynaCool 全新一代完全无液氦综合物性测量系统
- Anasazi 科研用小型无液氦核磁共振波谱仪
- MPMS3最新一代磁学测量系统
- PPMS 综合物性测量系统
紫外清洗等离子清洗机
- 美Harrich 等离子清洗机
- 德Diener 等离子清洗机
- 德PVA Tepla 微波等离子清洗机
- 美Nano-master 晶圆清洗机
- 美国Novascon UV清洗机
- 美国UVOCS UV清洗机
- 美国Jelight UV清洗机
- 日本SEN 紫外UV清洗机UV灯
- 美国Uvitron全功能紫外面光源
- 蓝星宇UV清洗机
太阳能检测仪
德国YXLON 检测仪
德国Netzsch
Rion 液体光学颗粒度仪
液体光学颗粒度仪
奥地利EVG光刻杨键合机压印机
尼康Nikon光刻机
德国Lecia 切片掩膜一体机
日本Elionix
化学开封机 / 激光开封机
光刻胶/硅片
半导体辅助工艺/光刻胶
日立Hitachi
UV灯
已选条件
产品分类
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自动进样稀释模块ASDM
自动进样稀释模块ASDM专为ICP自动进样器设计，支持2至1000倍的样品溶液稀释，配备两种型号以适应不同溶液类型。该模块可自动添加标准溶液，并能同时清洗稀释探头及准备下一个稀释样品。ASDM提供10ml注射器进行2-20倍稀释，或两支注射器进行50-1000倍稀释。
价 格：￥电议型 号：产 地：日本
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自动化标准添加系统 ASAS II
ASAS II自动化标准添加系统通过自动制备校准标准溶液，提升了电感耦合等离子体（ICP）分析的效率与精度。该系统采用非接触式光流传感器和高精度注射泵，实现微量标准溶液的精 准添加。其无阀门设计及全氟聚合物材质确保了系统的高效与耐用性。
价 格：￥电议型 号：产 地：日本
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气体电离探测器GED
气体电离探测器（GED）是一种用于测量气体中金属颗粒浓度的技术，尤其适用于半导体行业中特殊气体的分析。该系统通过一个高效的膜来交换气体，使得样品气体中的金属颗粒能在无需预处理的情况下直接引入到电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）中进行高灵敏度分析。
价 格：￥电议型 号：产 地：日本
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连续化学采样检测系统CSI
化学分析实验室采用连续化学采样检测系统（CSI）监测半导体工艺中的化学品，以检测微量金属杂质。该系统使用电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）进行24/7的连续监测，确保化学品在运输和更换过滤器过程中不受污染。在线接口软件（OIS）控制阀门、自动进样器和ICP-MS，实现自动校准和质量控制。该系统能够生成浓度和计数趋势图，并具备自动重新分析功能。
价 格：￥电议型 号：产 地：日本
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连续化学品检测系统 CSI
CSI 连续化学品检测系统：化学敏感仪器监测半导体晶圆厂使用的化学物质，通过连续化学采样检测（CSI）系统监测微量金属杂质，以避免器件故障。系统采用电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS）对化学品进行24/7的连续监测，包括液相（LT）和气溶胶相（AT）两种样品运输方式。L
价 格：￥电议型 号：产 地：日本
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金属标准气雾剂生成系统 MSAG
MSAG金属标准气雾剂生成系统，是一种用于纳米颗粒分析及直接气体分析的重要工具，尤其适用于电感耦合等离子体质谱法（ICP-MS）。该设备能够以0至3μL/min的速度将混合金属标准溶液引入雾化器，确保了高灵敏度和准确性。通过MSGG装置监测ICP-MS灵敏度变化，并利用钼气态标准作为内标。
价 格：￥电议型 号：产 地：日本
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激光剥蚀多通道原子吸收光谱系统LAGM
LAGM激光剥蚀多通道原子吸收光谱系统采用飞秒激光和电流计镜，可精确烧蚀 300 毫米晶圆样品，无需小型封闭腔室。系统配备双注射器模型 MSAG_DS，支持标准加入法进行定量分析，具备点和面倾斜度、轮廓及杂质分析功能。系统能全自动操作，支持多种分析模式如全扫描、斑点、直线、块模式及深度剖面模式，适用于晶圆和非晶圆样品的全 面分析。
价 格：￥电议型 号：产 地：日本
