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pcie2.0x4 眼图测试 物理层致性测试$r$n集成电路的发明是人类历史上的大创举,它大地推动了人类的现代文明进程,在天无时无刻不在影响着我们的生活。进入 21 世纪以来,集成电路的发展则更是狂飙猛进。天的大规模集成电路生产和制造工艺已经达到 10 nm 量产水平,更高的集成度意味着同等体积下提供了更高的性能,当然对业内从业者来说遇到的挑战和问题也就越来越严峻。
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