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PHI Versaprobe 4 X射线光电子能谱仪
价格：￥电议
品牌名称：$brandModel.Title(进口品牌)型号： 原产地：中国大陆 发布时间：2023/5/14 16:09:30更新时间：2024/12/6 11:27:30
产品摘要：The PHI 5000 Versaprobe II (VP-II) 能提供高性能的微区光谱，化学成像，二次电子成像，具有离子与电子双中和系统，以及可以在低电压也可工作的高效能离子枪，UPS适用于表面状态分析，能获得能带结构。
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详细内容
XPS 作为一种重要的表面分析方法，广泛应用于固体材料表面的元素组分和化学态的研究，例如电池材料，催化剂，集成电路，半导体，金属，聚合物，陶瓷和玻璃等，可满足从研发到失效分析的广泛分析需求。VersaPrabe4 采用了全新设计的高灵敏分析器，灵敏度是上一代的2倍，具有更低的检测限，能够实现从微区到大面积的高灵敏度化学分析。微聚焦扫描X射线和SXI影像，通过类似SEM的SXI影响可以作为样品导航，实现100%精准地定义微区分析位置
PHI Versaprobe 4 X射线光电子能谱仪应用范围：
包括表面的元素与化学态分析（氢和氦除外）。
表面物种的化学状态的识别，包括有机和无机材料，导体和绝缘体。
深入薄膜中的组成元素分布概况，包括半导体、薄膜结构，磁介质薄膜，光学镀膜，装饰涂料，和耐磨涂层。
在必须避免会对电子束技术有破坏性效果时的样品成分分析。
XPS：固体样品的表面组成分析，化学状态分析，取样讯息深度为～10nm以内. 功能包括:
1. 表面定性与定量分析. 可得到小於10um 空间分辨率的X射线光电子能谱的全谱资讯。
3. 线扫描或面扫描以得到线或面上的元素或化学态分布。
4. 成像功能。
热门标签：X射线光电子能谱仪
