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电子工业用EDI超纯水设备

点击次数:97发布时间:2021/8/29 18:29:29

电子工业用EDI超纯水设备

更新日期:2024/7/15 11:38:35

所 在 地:中国大陆

产品型号:DK

简单介绍:超纯水设备应用行业新能源行业(光伏、微电子、太阳能、新材料)、电子(集成电路、显像管、线路板、电脑元件、电容器等)、电力(核电、光电、火力发电等)、光学、半导体、单/多晶硅、表面处理、化工、电镀等相关行业。

优质供应

详细内容

 电子工业用EDI超纯水设备   电子工业用EDI超纯水设备

1、超纯水设备系统介绍

超纯水设备系统主要采用全自动反渗透+电去离子(EDI)+抛光混床超纯水处理技术,置预处理加反渗透处理,有效去除水中各种盐份及杂质,然后运用CEDI及抛光混床系统,进一步提升水质,使出水达到用水工艺要求。在其中EDI是主要核心。

EDI(Electrodeionization)技术是将电渗析技术和离子交换技术相融合,通过阴、阳离子交换膜对阴、阳离子的选择性透过作用与离子交换树脂对离子的交换作用,在直流电场的作用下实现离子的定向迁移,从而完成水的深度除盐,同时水电离解产生的氢离子和氢氧根离子对离子交换树脂进行再生,因此不需酸碱化学再生而能连续制取超纯水。

2、EDI工作原理

1)RO产水进入EDI模块后被均匀地分配到淡水室中。

2)RO膜未脱除的微量离子被淡水室中的离子交换树脂吸附在膜表面。

3)直流电加在EDI模块的两端电,驱动淡水室中的阴阳离子向相应电迁移至浓水室,从而制取高纯水。

4)在电场作用下,水分子被大量电离成H+和OH-,从而连续地对离子交换树脂进行再生。

3、EDI进水条件

进水水源:反渗透RO产水

进水电导率:≤20μS/cm

进水电导范围率:2-10μS/cm

进水电导率限值:≤50μS/cm

进水PH值:6-8

进水温度:5℃-38℃

进水压力:0.2-0.6MPa

硬度:小于0.5ppm,(以CaCO3计)

硅:小于0.5ppm,(以SiO2计)

4、超纯水设备规范标准

1)工艺标准

(1)《钢制焊接常压容器 NB/T  47003.1—2009》

(2)《水处理设备 技术条件 JB/T 2932-1999》

(3)《机械设备安装工程施工及验收通用规范》GB50231-2009
2)电气安装标准

(1)GB50168-2006 《电气装置安装工程电缆线路施工及验收规范》

(2)GB50171-92《电气装置安装工程盘/柜及二次回路施工及验收规范》

(3)GB50169-2006《电气装置安装工程接地装置施工及验收规范》

5、超纯水设备工艺流程

(1)预处理+双反渗透+电去离子+抛光混床
(2)预处理+单反渗透+电去离子
(3)预处理+单反渗透+再生混床

6、超纯水设备性能介绍

(1)超纯水设备反渗透系统采用全自动方式控制,主要元件采用进口元件,稳定性高,操作简单方便。

(2)超纯水设备配备浓水调节阀,操作方便。

(3)超纯水设备配备有紫外线及膜滤器,防止细菌对EDI及水质的影响。

(4)超纯水设备通过核心技术,确保EDI系统短时停机或长时间停机时水质保持稳定。

(5)超纯水设备采用EDI膜堆,性能稳定,使用寿命长,连续出水水质稳定无波动,不需加盐和浓水循环。

(6)超纯水设备中的EDI流量计采用德国进口斯德宝品牌的带磁感应浮子流量计,可预防因浓水通道堵塞或其他设备故障引起的无浓水产水而对膜堆造成的损坏。

(7)超纯水设备具有无水保护和高、低压力保护等多种装置安全功能。

(8)超纯水设备所有控制采用全自动方式,主要元件采用进口元件,稳定性高,操作简单方便。

(9)超纯水设备主要电器元件采用法国施耐德,保质保量,并按合适配置设计。

7、超纯水设备应用行业

新能源行业(光伏、微电子、太阳能、新材料)、电子(集成电路、显像管、线路板、电脑元件、电容器等)、电力(核电、光电、火力发电等)、光学、半导体、单/多晶硅、表面处理、化工、电镀等相关行业。


 

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  • 最后认证时间:无需年检
  • 法人:张先**
  • 注册号:****
  • 企业类型:生产商
  • 注册资金:人民币**万

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