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二氧化碳清洗技术的应用
点击次数：182 发布时间：2022/11/30
二氧化碳清洗过程可去除各种尺寸的颗粒，从可见到 3 - 5 纳米。同时，可以去除烃类污染物和有机残留物。二氧化碳除雪是无损、非磨蚀、无残留、环保的——没有化学废物。清洁过程基于液态或气态二氧化碳的受控膨胀。这种膨胀导致小的干冰颗粒和高速载气流成核。撞击表面后，干冰通过动量传递去除各种尺寸的颗粒，并通过瞬态溶剂或冷冻断裂机制去除碳氢化合物和有机物。高速气体将污染物吹走。此外，可以更改喷嘴设计以清洁大型望远镜反射镜。
二氧化碳清洗可用于初始或终清洁，以及半导体、磁盘驱动器、研究、真空技术、表面科学、表面分析、光学、医疗、分析仪器、望远镜、艺术中的许多关键和非关键清洁应用保护、制造社区等。
二氧化碳清洗
二氧化碳清洗工艺以高效率从表面去除微米和亚微米颗粒，并且还去除基于碳氢化合物的污染物。CO 2雪清洁是非破坏性的、非磨蚀性的、无残留的，并且不会产生化学废物。
二氧化碳清洗应用
许多不同的清洁应用已被成功展示：
· 从金属、陶瓷、聚合物和玻璃中去除污染物
· 去除 Si、InP 和 GaAs 晶圆上的颗粒和污点
· 清洁光学元件，即镀膜镜片、激光、IR 和 UV 光学元件、光纤
· 表面分析的样品制备（俄歇、XPS、SIMS 和 AFM）
· 一般实验室、生产和洁净室清洁
· 各种基材制备
· 清洁真空系统组件，包括电子和离子光学器件、波纹管、机加工零件
· 从微电子和混合电路中去除颗粒
· 大望远镜镜
· 艺术修复和清洁，火灾后修复
· 还有很多
