概述：

本机是根据石英晶片生产企业设计的一款高性能晶片腐蚀清洗设备，双槽式设计，外壳采用电器控制元件。

主要特点：

带有上下抖动功能，能有效充分的腐蚀晶片。

腐蚀槽可采用石英缸，也可采用进口PP槽。

自动补液，自动放液，减少人为操作。

水冲洗槽采用循环水，自动溢流，节约水源。

可采全自动方式，也可采用手动控制方式。

本机是根据石英晶片生产企业设计的一款高性能晶片腐蚀清洗设备，双槽式设计，外壳采用电器控制元件。

主要特点：

带有上下抖动功能，能有效充分的腐蚀晶片。

腐蚀槽可采用石英缸，也可采用进口PP槽。

自动补液，自动放液，减少人为操作。

水冲洗槽采用循环水，自动溢流，节约水源。

可采全自动方式，也可采用手动控制方式。

本机是根据石英晶片生产企业设计的一款高性能晶片腐蚀清洗设备，双槽式设计，外壳采用电器控制元件。

主要特点：

带有上下抖动功能，能有效充分的腐蚀晶片。

腐蚀槽可采用石英缸，也可采用进口PP槽。

自动补液，自动放液，减少人为操作。

水冲洗槽采用循环水，自动溢流，节约水源。

可采全自动方式，也可采用手动控制方式。

本机是根据石英晶片生产企业设计的一款高性能晶片腐蚀清洗设备，双槽式设计，外壳采用电器控制元件。

主要特点：

带有上下抖动功能，能有效充分的腐蚀晶片。

腐蚀槽可采用石英缸，也可采用进口PP槽。

自动补液，自动放液，减少人为操作。

水冲洗槽采用循环水，自动溢流，节约水源。

可采全自动方式，也可采用手动控制方式。

本机是根据石英晶片生产企业设计的一款高性能晶片腐蚀清洗设备，双槽式设计，外壳采用电器控制元件。

主要特点：

带有上下抖动功能，能有效充分的腐蚀晶片。

腐蚀槽可采用石英缸，也可采用进口PP槽。

自动补液，自动放液，减少人为操作。

水冲洗槽采用循环水，自动溢流，节约水源。

可采全自动方式，也可采用手动控制方式。