光学频率梳光梳合成器
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详细内容
EFO-COMB光学频率梳光梳合成器
EFO-COMB光学频率梳光梳合成器基于飞锁模铒掺杂PM光纤激光器,具有4个PM光纤耦合输出,包括用于产生超连续谱的掺Er光纤放大器,以及带有同步和锁定电子器件的f-2f干涉仪。
-
全光纤PM方案
-
全天候运营
-
完整的单源频梳系统
-
520-2200 nm全光谱覆盖范围
EFO-COMB光学频率梳面板
EFO-COMB光学频率梳后面板
EFO-COMB光学频率梳光梳合成器将飞锁模掺铒光纤激光器与4个光纤耦合激光器输出,带有超连续谱发生器的光纤放大器和f-2f干涉仪相结合。全PM光纤方案可确保系统不间断运行。EFO-COMB可以为每种情况单独配置单独的控制架,包括控制和电源单元,相位偏移调谐单元,数据收集和可视化单元以及许多其他可能的选项。
该系统还可配备:1560 nm的光纤放大器,780 nm输出的SHG单元,1000-2200 nm的超连续谱发生器,520-1000 nm的超连续谱发生器,差频发生器(DFG)。
产品规格:
规格 | EFO-COMB |
梳齿间距 (Frep) | 100 MHz |
稳定性(连接微波参考源) | <5·10 ^ -13@1s或与参考相同 |
调整梳齿间距范围 | > 0.7 MHz |
调整偏移频率Fceo的范围 | > 100 MHz |
光输出 | 2或4个光纤耦合输出端口或准直自由空间输出,1560 nm,520-1000 nm,1000-2200 nm 其他波长可根据要求提供(可选) |
中心波长(固定) | 1560±10nm |
全光谱覆盖范围(附加选项) | 520-1000 nm,1000-2200 nm,其他波长可根据要求提供 |
输出功率 | 每个输出> 5 mW; > 150 mW @ 1560 nm(可选); > 200 mW @ 1000-2200 nm(可选); > 80 mW @ 520-1000 nm(可选) |
光学单元尺寸(长x宽x高) | 356 x 492 x 110mm |
控制架尺寸(宽x长) | 640 x 553 mm(机架高度取决于精确配置) |
参考文献:
Article: Methane based microwave reference oscillator
Article: Femtosecond optical-to-microwave frequency divider with a relative instability of 10^-14 to 10^-16 (t=1-100 s)
Article: Application in an Optical Clock System
Article: Femtosecond Er3+ fiber laser for application in an optical clock
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