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产品展示

二硫化钼靶材MoS2磁控溅射靶材

点击次数:119发布时间:2020/7/13 16:27:11

二硫化钼靶材MoS2磁控溅射靶材

更新日期:2021/9/17 17:33:10

所 在 地:中国大陆

产品型号:50.8*6mm

简单介绍:

优质供应

详细内容

 科研实验专用二硫化钼靶材MoS2磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
产品介绍
       二硫化钼(MoS2)为铅灰色有光泽粉末,人工合成的呈黑色,有金属光泽,熔点:1185℃,密度:4.80g/cm³(14℃),莫氏硬度1.0~1.5,450℃开始升华;溶于王水和热浓硫酸,不溶于水和稀酸,有刺激性。多用于制造钼化合物;润滑添加剂;氢化反应和异构化反应催化剂。
产品参数
二硫化钼             化学式MoS2
相对分子质量160.07   熔点 1185℃
密度 4.80g/cm³(14℃)
支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!! 
服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!
产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 
质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 
加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
        陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!
       我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。
       注意:高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!
       建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。

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联系人:刘东

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企业档案

  • 会员类型:免费会员
  • 工商认证: 【未认证】
  • 最后认证时间:
  • 法人:
  • 注册号:
  • 企业类型:生产商
  • 注册资金:人民币200万

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