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EVG620NT 光刻机- 半自动/自动光罩对准系统
价格：￥电议
品牌名称：$brandModel.Title(进口品牌)型号：EVG 原产地：中国大陆 发布时间：2022/1/19 15:44:27更新时间：2024/11/21 10:11:44
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详细内容
EVG®620 NT Mask Alignment System(semi-automated / automated)
EVG®620NT 掩模对准系统（半自动/自动）
EVG®620NT在zui小的占位面积（zui大150 mm晶圆尺寸）上提供了的掩模对准技术。
技术数据
EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著称，在zui小的占位面积上结合了进的对准功能和优化的总体拥有成本，提供了进的掩模对准技术。它是光学双面光刻的理想工具，可提供半自动或自动配置以及可选的全外壳Gen 2解决方案，以满足大批量生产要求和制造标准。操作员友好型软件，短的掩模和工具更换时间以及 的 服务和支持使它成为任何制造环境的理想解决方案。
EVG620 NT或完全容纳的EVG620 NT Gen2掩模对准系统配备了集成的隔振系统，可在各种应用中获得出色的曝光效果，例如对薄而厚的抗蚀剂进行曝光，对深腔进行构图以及可比较的形貌。以及薄而易碎的材料（例如化合物半导体）的加工。此外，半自动和全自动系统配置均支持EVG有的SmartNIL技术。
特征
晶圆/基板尺寸从碎片到150毫米/ 6＇
系统设计支持光刻工艺的多功能性
易碎，薄或翘曲的多种晶圆尺寸的晶圆处理，更换时间短
带有间隔垫片的自动无接触楔形补偿程序
自动原点功能，用于对准键的精确居中
具有实时偏移校正的动态对准功能
支持新的UV-LED技术
返工分拣晶圆管理和灵活的盒式系统
自动化系统上的手动基材装载功能
可以从半自动版本升为全自动版本
小化系统占地面积和设施要求
多用户概念（无限数量的用户帐户和配方，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）
的软件功能以及研发与全面生产之间的兼容性；敏捷处理和转换重组；远程技术支持和SECS / GEM兼容性；
附加功能：键对齐 红外对准 纳米压印光刻（NIL）
技术数据
曝光源：汞光源/紫外线LED光源
的对齐功能：手动对准/原位对准验证 自动对齐 动态对齐/自动边缘对齐
对准偏移校正算法：通量
