EVG®610  紫外线纳米压印光刻系统

具有紫外线纳米压印功能的通用研发掩膜对准系统，从小件到150毫米

技术数据

该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，并且可以选择背面对准。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键合对齐和纳米压印光刻（NIL）。

EVG610提供快速的处理和重新安装工具，以改变用户需求，光刻和NIL之间的转换时间仅为几分钟。其的多用户概念可以适应从初学者到专家级别的所有需求，因此使其非常适合大学和研发应用。

对于压印工艺，EVG610允许基板的范围从小芯片尺寸到直径150毫米。纳米技术应用的配置除了可编程的高和低接触力外，还可以包括邮票的释放机制。 EV Group专有的卡盘设计可提供均匀的接触力，以实现高产量的印记，该卡盘支持软性和硬性印模。

特征

顶侧和底侧对齐能力

高精度对准台

自动楔形误差补偿机制

电动和配方控制的曝光间隙

支持*新的UV-LED技术

*小化系统占地面积和设施要求

分步流程指导

远程技术支持

多用户概念（无限数量的用户帐户和配方，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）

敏捷处理和光刻工艺之间的转换；      台式或带防震花岗岩台的单机版

附加功能：键对齐、红外对准、纳米压印光刻、µ接触印刷

技术数据

晶圆直径（基板尺寸）标准光刻：150毫米的碎片；柔软的UV-NIL：150毫米的碎片

解析度≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）

支持流程

柔软的UV-NIL

曝光源：汞光源或紫外线LED光源

自动分离：不支持；

工作印章制作：外部；

EVG^®620 NT

Smart NIL^® UV Nanoimprint Lithography System

EVG®620NT   SmartNIL®UV纳米压印光刻系统

具有UV纳米压印功能的通用掩模对准系统，采用EVG专有的SmartNIL®技术，可达100 mm

技术数据

EVG620 NT以其灵活性和可靠性而著称，以*小的占位面积提供了*新的掩模对准技术。操作员友好型软件，*短的掩模和模具更换时间以及有效的全球服务支持使它们成为任何研发环境（半自动批量生产）的理想解决方案。该工具支持多种标准光刻工艺，例如真空，软，硬和接近曝光模式，以及背面对准选项。此外，该系统还为多功能配置提供了附加功能，包括键对齐和纳米压印光刻。此外，半自动和全自动系统配置均支持EVG专有的SmartNIL技术。

SmartNIL是行业的NIL技术，可对小于40 nm *的极小特征进行图案化，并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。 SmartNIL与多用途软戳技术相结合，可实现无与伦比的吞吐量，并具有显着的拥有成本优势，同时保留了可扩展性和易于维护的操作。 EVG的SmartNIL兑现了纳米压印技术的长期前景，纳米压印技术是一种用于大规模生产微米级和纳米级结构的低成本，高产量的替代光刻技术。

*分辨率取决于过程和模板

特征

顶侧和底侧对齐能力

高精度对准台

自动楔形补偿序列

电动和配方控制的曝光间隙

支持*新的UV-LED技术

*小化系统占地面积和设施要求

分步流程指导

远程技术支持

多用户概念（无限数量的用户帐户和配方，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）

敏捷处理和转换重组

台式或带防震花岗岩台的单机版

附加功能：键对齐、红外对准、SmartNIL 、µ接触印刷

技术数据

晶圆直径（基板尺寸）

标准光刻：150毫米的碎片

柔软的UV-NIL：150毫米的碎片

SmartNIL®：长达100毫米

解析度≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）

支持流程：柔软的UV-NIL和SmartNIL®

曝光源：汞光源或紫外线LED光源

对准

软NIL：≤±0.5 µm

SmartNIL®：≤±3 µm

自动分离

柔紫外线NIL：不支持

SmartNIL®：受支持

工作印章制作

柔软的UV-NIL：外部

SmartNIL®：受支持