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北京亚科晨旭科技有限公司 主营产品:1.,全套微组装线设备,2.,全套半导体前道设备,3.,全套SMT线设备,4.,LTCC线缆处理设备

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PICOSUN®R-200高级ALD镀膜设备

价格:¥电议

品牌名称:$brandModel.Title(进口品牌)型号:PICOSUN®R-200高级ALD镀膜设备 原产地:中国大陆 发布时间:2020/5/20 16:47:07更新时间:2024/10/30 9:08:43

产品摘要:Picosun独特的突破性ALD专业知识可追溯到ALD技术本身的诞生。于1974年在芬兰发明了ALD方法,并在工业上获得了。在高质量ALD系统设计方面拥有丰富的经验。

产品完善度: 访问次数:874

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手机网站:http://m.yituig.com/c149799/

商铺地址:http://www.astchina.com

详细内容

 ALD当今zui  复杂的薄膜镀膜技术。

 

原子层沉积(ALD)是一种的薄膜涂覆方法,可用于制造超薄,高度均匀和共形的材料层,以用于多种应用。 ALD使用顺序,自限和表面受控的气相化学反应来控制纳米/亚纳米厚度范围内的薄膜生长。由于成膜机理–气体直到与表面接触才发生反应,这意味着膜的生长是通过连续的原子层从表面“向上”进行的– ALD膜致密,裂纹,缺陷和针孔。原子的自由度及其厚度,结构和化学特性可以精确控制。 ALD过程是数字可重复的,并且可以在相对较低的温度下执行。这不仅可以构造单一材料层,还可以构造掺杂,混合或渐变的层和纳米层压板,而较低的工艺温度还可以涂覆敏感的材料,例如塑料和聚合物。 ALD材料的范围很广,例如从氧化物,氮化物,氟化物,碳化物和硫化物,形成三元化合物,金属(包括贵金属),杂化材料和聚合物。

ALD使我们的现代,移动和互联生活成为可能。

在过去的几年中,ALD的应用数量呈指数增长。如今,结合摩尔定律和不断减小的IC(集成电路)器件尺寸,ALDwei一一种可以制造功能材料层足够薄但仍具有zui  高质量,均匀性,一致性和结构完整性的方法。在当今的存储器,逻辑和硬盘组件中常见的纳米级特征和高长宽比结构。简而言之,ALD使我们的现代移动通信设备以及越来越紧凑和高效的计算机成为可能。

ALD正在遍及全球工业ling域。

除了IC组件制造之外,ALD的其他大规模工业应用还可以在传感器,LED和其他III-V器件以及MEMS(微机电系统)制造中找到。 ALD膜还用于光学和光电,防锈蚀和腐蚀保护以及可再生能源应用,例如太阳能,该方法为能量存储和生产(例如高级薄膜电池和燃料电池),生物相容性和医疗设备和植入物,生态包装材料,防潮和气密密封剂层,装饰性涂层以及疏水/亲水性涂层的生物活性表面功能化。

 

 

PICOSUN®R-200高级ALD镀膜设备

 

Picosun简介

Picosun是一家全球公司,Picosun的总部位于芬兰的Espoo,其生产设施位于芬兰的MasalaKirkkonummi)。PICOSUN®ALD设备专为高产量和高产量而设计,并且不断发展以提高效率。

Picosun适应性强其客户包括zui  大的电子制造商,小型的创新型挑战者以及全球ling先的大学。 Picosun的组织机构和种类繁多的ALD解决方案都可以满足每个客户的需求。PICOSUN®研发工具具有独特的内置可扩展性,可确保将研究结果平稳过渡到大批量工业制造中,而不会出现技术差距。

Picosun的热情在于创新。当您想与设备制造商共同创建定制的ALD解决方案,从而引ling行业发展时,Picosun是您的合作伙伴。

Picosun独特的突破性ALD专业知识可追溯到ALD技术本身的诞生。于1974年在芬兰发明了ALD方法,并在工业上获得了。在高质量ALD系统设计方面拥有丰富的经验。高度敬业的Picosun人员拥有无与伦比的ALD经验,并且为ALD的许多做出了贡献。

 

ALD主要应用:

1.在集成电路上的应用:Fin-FETHKMG工艺在Si衬底上长高K绝缘层HfO2La2O3Ta2O5Al2O3等;电容器金属电极;晶体管栅电极;TSV电镀铜前长阻挡层和种子层;

2.在显示中的应用:在Micro-LED中通过在沟槽中长钝化层来改善光散射性能;在OLED中低温长防水层。

3.在激光器和功率器件的应用:VCSEL侧面长AlNAl2O3保护层;GaN高频器件T Gate刻蚀后去氧化层并镀上保护层。

4.验证光刻胶性能:第三方实验室或者工厂FA部门,涂胶后通过低温ALD镀一层很薄的膜来保持住光刻胶的整体形貌,然后通过FIB+TEM等方法来验证光刻胶性能,如果不镀膜直接上FIBTEM会破坏光刻胶原有的形貌,无法获得准确的结果。

5.其他应用:MEMS/SAW等做高均匀性镀膜,锂电池、医疗等行业等粉末镀膜。

PICOSUN®R-200标准

PICOSUN®R-200标准ALD系统适用于数十种应用的研发,例如IC组件,MEMS器件,显示器,LED,激光和3D对象,例如透镜,光学器件,珠宝,硬币和医疗植入物。热ALD研究工具的市场ling导者。它已成为创新驱动的公司和研究机构的shou选工具。

敏捷的设计实现了zui  高质量的ALD薄膜沉积以及系统的zui  终灵活性,可以满足未来的需求和应用。的热壁设计具有完全独立的入口和仪器,可实现无颗粒工艺,适用于晶圆,3D对象和所有纳米级特征上的多种材料。得益于我们专有的Picoflow™技术,即使在zui  具挑战性的通孔,超高长宽比和纳米颗粒样品上也可以实现出色的均匀性。 PICOSUN®R-200 Standard系统配备了功能强大且易于更换的液态,气态和固态化学物质前体源。与手套箱,粉末室和各种原位分析系统集成,无论您现在的研究ling域是什么,或以后可能成为什么样的研究ling域,都可以进行高效,灵活的研究,并获得良好的结果。

热门标签:ALD 原子层沉积 

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