PICOSUN®R-200高级
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会员类型:初级版会员
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易推广初级版会员:4年
最后认证时间:
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法人代表: 【已认证】
企业类型:代理商 【已认证】
注册资金:人民币500万 【已认证】
产品数:90
参观次数:83919
详细内容
PICOSUN®R-200高级
PICOSUN®R-200高级
PICOSUN®R-200 Advanced ALD系统适用于数十种应用的研发,例如IC组件,MEMS器件,显示器,LED,激光和3D对象,例如透镜,光学器件,珠宝,硬币和医疗植入物。
技术特点
典型的基材尺寸和类型
50-200 mm单晶片
156毫米x 156毫米太阳能硅晶片
3D物件
粉末和颗粒
小批量
多孔,贯通孔和高长宽比(高达1:2500)
加工温度
50 – 500°C,等离子450°C(650°C,可根据要求提供加热卡盘)
典型流程
Al2O3,TiO2,SiO2,Ta2O5,HfO2,ZnO,ZrO2,AlN,TiN,金属如Pt或Ir
基板加载
用气动升降机手动装载
磁力锁机械臂
搬运机器人半自动装载
使用集群工具在盒式磁带间加载
前体
液体,固体,气体,臭氧,等离子(*)
多达12个带有6个独立进样口的离子源(如果选择等离子选项,则为7个)
选件
群集工具,Picoflow™扩散增强剂,卷对卷室,RGA,UHV兼容性,N2发生器,气体洗涤器,定制设计,用于惰性装载的手套箱集成
PICOSUN®R-200高级ALD系统是高级ALD研究工具的全球市场ling导者,已有数百个客户安装。它已成为创新驱动的公司和研究机构的shou选工具。
敏捷的设计实现了zui 高质量的ALD薄膜沉积以及zui 终的系统灵活性,可以满足未来的需求和应用。的热壁设计具有完全独立的入口和仪器,可实现无颗粒工艺,适用于晶圆,3D对象和所有纳米级特征上的多种材料。得益于我们专有的Picoflow™技术,即使在zui 具挑战性的通孔,超高长宽比和纳米颗粒样品上也能实现出色的均匀性。 PICOSUN®R-200 Advanced系统配备了功能强大且易于更换的液态,气态和固态化学品前体源。高效且获得的远程等离子选件可实现金属沉积,而没有短路或等离子损坏的风险。与手套箱,UHV系统,手动和自动装载机,集群工具,粉末仓,卷对卷仓以及各种原位分析系统集成在一起,无论您现在或将来的研究ling域如何,都可以高效,灵活地进行研究,并获得良好的结果稍后。
(*)等离子发生器技术特点:
远程血浆源安装到装载室并与反应室连接
出色性能的适用于不同化学性质的蓝宝石涂药器
商用微波等离子体发生器,具有300 – 3000 W可调功率,2.45 GHz频率
保护气体在中间空间中流动(无等离子体物质的反向扩散)
在相同的沉积过程中,等离子体和热ALD循环的可能性,而无需对系统进行硬件更改
以下相关标准用于评估电源的符合性:DIN EN ISO 12100:
电源的开发和制造满足SEMI S2-0310的要求