PHI X-tool是一款操作简单，同时具备高效高能的XPS。其秉承PHI-XPS独有的扫描聚焦X-ray系统，可通过单色化石英晶体叫X-ray直接聚焦至20μm。和传统的XPS相比，不采用光阑进行选区，极大的提高了XPS在200μm以下空间尺度的灵敏度。同时，不需要增加磁透镜，即可得到卓越的灵敏度及优秀的信噪比，即使磁性样品，也可轻松应对。

1.　卓越的操作性

PHI X-tool软件支持直观的触摸屏操作，所有XPS测定过程都可在触摸屏上完成。用户可以自由选择手动操作模式和自动操作模式（自动定性、定量、分析及完成报告），操作者无论是否具有丰富的XPS操作经验，均能轻松应对。

2.　自动参数设定、自动完成报告

PHI X-tool具备自动对焦功能（Auto-Z），使分析位置处于X射线的焦平面上，得到*优的分析条件。其可实现中和参数的自动匹配，无论样品的导电性如何，均可轻松应对。

l   自动定性：实现谱峰自动识别

l   自动定量：自动选定谱峰定量范围

l   自动曲线拟合：可自动实现预定条件的曲线拟合

l   自动生成实验报告

3.　多方式样品观察

在XPS分析中，样品观察，特别是微区定位至关重要。PHI X-tool可通过以下三种方式进行样品观察：a. 进样室高空间分辨率图像；b. 实时CCD成像；c. 二次电子像（SXI）。利用这几种方法观察样品，不论样品大小，表面形貌如何均可轻松确定测试位置。

4.　详细的条件设定和直观的操作

结合材料和目的，可详细设定分析的条件。通过内置元素周期表，可设定各光电子峰和俄歇峰。通过更改通过能、步长、积分时间设定窄谱扫描参数。对每个样品可设置习惯的文件名和样品名称。

5.　快速化学成像

采用扫描X射线和高灵敏度检测器及非扫描模式，可实现快速成像分析。每个点都可以直接调取全部的谱数据。化学态成像的空间分辨率、灵敏度、能量分辨率与仪器主指标一致。

6.　采用PHI独有的硬件设计

l   微聚焦扫描X-ray源；

l   双束中和系统，低能离子束及低能电子束自动配合；

l   浮动离子枪，离子加速电压条件范围可达0~5kV