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仪器简介：
仪器用途：用于溶液中的物质在基片上的成膜
仪器原理：
固体基片在没有表面压缩时，单一的浸入溶液，然后从溶液中退出，溶液中的材料就沉积到基片表面
技术参数：
沉积行程： 300 mm
基片尺寸： 8英寸
控制装置： 电子控制单元
控制方式： 软件控制
沉积速度： 1 to 1000 mm/min
主要特点：
该系统为软件控制，简单的自动操作，用户能从液相中进行独立的沉积，可以控制沉积的速度和等待时间，且沉积时运行平稳，无振动。适用于自组装薄膜、层-层组装（聚电解质吸附）、溶液-凝胶体涂膜、以及其它溶液浸渍涂膜应用。
