等离子体增强型原子层沉积PEALD介绍：

PICOFLOW? 扩散增强器

PICOFLOW?扩散增强器用于提升深沟槽、高深宽比样品的薄膜质量。同样适用于多孔、通孔、柔性样品，粉末及其他复杂纳米结构的样品。该装置兼容所有Picosun? ALD设备。

POCA? and PICOVIBE? 颗粒沉积系统

PIcosun提供工业及研究型粉末沉积解决方案。POCA? 300粉末沉积腔可以加工大批量粉末材料，并可以直接集成到PICOSUN? P-300生产线反应腔内。对于小批量的粉末材料，可以采用POCA? 200粉末沉积腔集成到PICOSUN? R系列的设备上。此部件体积小，可以为高质量的粉末材料研究提供多样化、成本低的解决方案。Picosun PICOVIBE?装置可以使前驱源气体在粉末中的均匀分布，进一步提升粉末中每一个颗粒的薄膜均一性。

可连续沉积的Roll-to-roll 腔室

在印刷电子、OLED包装、薄膜电池、智能纺织材料、有机传感器、可循环或可生物降解包装材料、柔性显示器等研究领域，均要求连续的ALD镀膜工艺。Picosun卷对卷ALD腔室可容纳300mm宽的衬底。并可直接集成到PICOSUN?P-300生产型反应腔室上。我们还提供用于研究的小型卷对卷腔室，可容纳70mm宽的衬底。

客户使用 PICOSUN? ALD 设备在150mm和200mm（6“和8”）Si基片上所沉积薄膜厚度均匀性数据。