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原子层沉积技术ALD-P1000
点击次数:74发布时间:2020/6/2 15:21:52
更新日期:2020/6/2 15:21:52
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产品型号:ALD-P1000
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详细内容
原子层沉积技术ALD-P1000专门对于3D结构物体进行批量涂层加工。例如:机械零件、玻璃或金属片、硬币、珠宝以及医疗植入物等。PICOSUN? P-1000系统专门对于3D结构物体进行批量涂层加工,例如:机械零件、玻璃或金属片、硬币、珠宝以及医疗植入器械。主要的应用包括制备各种各样的钝化层和阻挡层,显著提高器件的性能和寿命。巧妙、创新的设计使得PICOSUN? P-1000 ALD系统在具有制备高均一性的高质量ALD薄膜的同时能够有很高的产量,并且是市场上保养、维护时间,购置成本*小的ALD系统。这些都已经在实际生产中得到证实。可靠、快速且易于维护PICOSUN? P-1000ALD系统代表了*尖端的工业化ALD工艺水平!
Picosun的ALD技术应用在钟表部件、珠宝、硬币上进行防着色,防腐蚀的装饰涂层。在生物植入医疗部件上的生物兼容、生物活性涂层。致密、惰性、密封、弹性、透明的ALD薄膜技术挑战传统的膜生长方式。在PCB防腐蚀保护、防摩损等领域,ALD层大大提升了部件的质量、可靠性及寿命。
ALD工业领域及应用 | |
产品 | ALD应用 |
医疗植入(牙科,连接技术) 手术固定器 | 植物活性层, 用来提高骨融 合,生物兼容的包覆层 |
植入医疗器件 (心脏起搏器,耳蜗植入) | 生物兼容包覆层 |
收藏性硬币 | 防着色涂层 |
钟表部件 | 防着色层或装饰层 |
珠宝 | 防着色层或装饰层 |
PCB | 防锡晶须及腐蚀 |
原子层沉积技术ALD-P1000技术参数
衬底尺寸和类型 | 大小不等的3D结构物件(例如:机械零件、玻璃或金属片、硬币、珠宝以及医疗植入物等) |
工艺温度 | 50 - 400 °C |
标准选件 | Al2O3, ZnO, TiO2 |
基片装载 | 通过装载工具进行手动装载 |
前驱体 | 液态、固态、气态、臭氧源 源瓶余量传感器,提供清洗和装源服务 6根独立源管线,*多加载10个前驱体源 |