名称：原子层沉积系统
品牌：PICOSUN
产地：芬兰
型号：PICOSUN? ALD- P300系列

Picosun? 300mm生产线上的产品是300mm以下晶圆的自动化、高产量的工业ALD加工设备。包括PICOSUN? P系列Pro和Advanced ALD设备。该工具可以独立工作，也可以集成到PICOPLATFORM?300真空集群系统以达到更高的产量和自动化水平。为了节约昂贵的设施空间，所有PICOSUN?的ALD系统有着紧凑、高效的设计。集成的专业机柜，装载着前驱体和电子元件，保证了快速简便的维护和*短的停机时间。PICOSUN? P系列工具保证了产能以及*节约成本的情况下得到优秀的ALD工艺质量，并履行严格的现代半导体产业的生产力和安全要求。
工艺咨询和开发，产能提升，维护保养流程和系统及工艺的故障排除，我们客户化定制的PICOSUPPORT?综合解决方案24小时快速响应，随时待命。在购买之前，我们的演示服务保证了设备可以100%满足客户*苛刻的产线需求。

客户使用PICOSUN? R系列ALD 设备在150mm和200mm（6“和8”）晶圆上所沉积薄膜厚度均匀性数据。

芬兰原子层沉积设备PICOSUN?ALD- P300系列以其适中的反应温度，甚至在*小的纳米孔洞结构及高深宽比材料中也具有极佳的薄膜均匀性、保形性，是开发MEMS和传感器的理想工艺。

PICOSUN公司提供具有技术、高产能和具有成本效益的批处理ALD系统，可为MEMS制造商定制自动化、复杂衬底处理方案。PICOSUN提供200毫米（甚至更小）尺寸晶圆解决方案，特别适用于传感器、打印头、麦克风，光电MEMS和射频MEMS产业。

芬兰原子层沉积设备PICOSUN?ALD- P300系列可沉积如Al2O3、ZnO、TiO2、SiO2、ZrO2 和HfO2、Ta2O5，氮化物（TiN、AlN）以及金属。

微机电系统中的ALD功能层:

? 扩散阻挡层                           ? 导热层

? 粘附层                                  ? 防粘层

? 电荷耗散层                           ? 光学层

? 导电种子层                           ? 生物膜

? 蚀刻掩膜、蚀刻阻挡层          ? 密封

? 电绝缘层                               ? 抗摩擦层

? 纳米孔洞闭合