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芬兰Picosun原子层沉积系统 R-200系列
点击次数:141发布时间:2020/6/2 15:32:15
更新日期:2020/6/2 15:32:15
所 在 地:
产品型号:PICOSUN™ ALD R-200系列
优质供应
详细内容
名称:原子层沉积系统
品牌:PICOSUN
产地:芬兰
型号:PICOSUN? ALD R-200系列
芬兰Picosun原子层沉积系统 R-200系列:PICOSUN? R系列设备提供高质量ALD薄膜的沉积技术,并在各种各样的衬底上都表现极佳的均匀性,包括*具挑战性的通孔的、超高深宽比和颗粒等样品。我们为液体、气体和固体化学物提供的更高级的,易更换的前驱源系统,能够在晶圆、3D样品和各种纳米特性的样品上生长颗粒度*小的薄膜层。在*基本的PICOSUN? R系列配置中可以选择多个独立的,完全分离的源入口匹配多种类型的前驱源。
兰Picosun原子层沉积系统 R-200系列 技术参数
衬底尺寸和类型 | 50 – 200 mm /单片 可沉积直径150 mm基片,竖直放置,10-25片/批次(根据工艺) 156 mm x 156 mm 太阳能硅片 3D 复杂表面衬底(使用Showerhead喷洒淋浴模式效果更佳) 粉末与颗粒(配备扩散增强器) 多孔,通孔,高深宽比(HAR)样品 |
工艺温度 | 50 – 500 °C, 可选更高温度(真空腔体外壁不用任何冷却方式即可保持温度低于60 °C) |
基片传送选件 | 气动升降(手动装载) 预真空室安装磁力操作机械手(Load lock ) |
前驱体 | 液态、固态、气态、臭氧源 4根独立源管线,*多加载6个前驱体源 对蒸汽压低的前驱体(1mbar~10mbar),用氮气等载气导入前驱体瓶内引出 |
重量 | 350kg |
尺寸( W x H x D)) | 取决于选件 *小146 cm x 146 cm x 84 cm 189 cm x 206 cm x 111 cm |
选件 | PICOFLOW?扩散增强器,集成椭偏仪,QCM, RGA,N2发生器,尾气处理器,定制设计,手套箱集 成(用于惰性气体下装载)。 |
验收标准 | 标准设备验收标准为 Al2O3 工艺 |
客户使用PICOSUN? R系列ALD 设备在150mm和200mm(6”和8”)晶圆上所沉积薄膜厚度均匀性数据。
材料 | 非均匀性(1σ) |
AI2O3 (batch) | 0.13 % |
SiO2 (batch) | 0.77 % |
TiO2 | 0.28 % |
HfO2 | 0.47 % |
ZnO | 0.94 % |
Ta2O5 | 1.0 % |
TiN | 1.10 % |
CeO2 | 1.52 % |
Pt | 3.41 % |