Picosun公司原子层沉积系统PICOPLASMA? 等离子体增强原子层沉积（PEALD）系统是基于的、可调的远程电感耦合等离子体源设计的，其性能已经得到世界范围内的诸多研究团队的肯定。多种激发源（如氧、氢和氮等）配置能够化拓展ALD的工艺范围，尤其是低温沉积金属和金属氮化物薄膜。由于远程等离子源所产生的等离子体束流中离子的含量很低，因此即使是*敏感的衬底，也不会出现等离子损伤，而等离子束流中含有高浓度的活性粒子，保证很快的生长速度。PICOPLASMA?源系统既可以安装在现有的PICOSUNTM ALD反应器上，也可以将整个PEALD组装为一个整体。它具有占地面积小、易维护和低运行成本等优点。通过预真空系统，PICOPLASMA?集成在PICOPLATFORM?集群系统中后可实现自动化操作。

PICOPLASMA?技术的关键优势：

· 对衬底无等离子损伤

· 导电材料不会产生短路现象

· 无前驱源背扩散→等离子发生器无薄膜形成

· 等离子体点火期间无压力振荡→无颗粒形成

· 等离子体源与衬底之间无闸门阀→无颗粒形成

· 等离子体源材料无刻蚀→金属和氧化物薄膜低杂质

· 简单和快速服务并通过维护舱口改变腔室

· 无硬件修改使热ALD和等离子ALD工艺在同一沉积腔室中进行成为可能