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产品展示

PICOSUN原子层沉积ALD P-300系列

点击次数:101发布时间:2020/6/2 15:32:47

PICOSUN原子层沉积ALD P-300系列

更新日期:2020/6/2 15:32:47

所 在 地:

产品型号:PICOSUN™ ALD ALD P-300

简单介绍:也可以集成到PICOPLATFORM?300真空集群系统以达到更高的产量和自动化水平。为了节约昂贵的设施空间,所有PICOSUN?的ALD系统有着紧凑、高效的设计。集成的专业机柜,装载着前驱体和电子元件,保证了快速简便的维护和*短的停机时间。PICOSUN? P系列工具保证了产能以及*节约成本的情况下得到优秀的ALD工艺质量,并履行严格的现代半导体产业的生产力和安全要求。工艺咨询和开发,产能提升,维护保养流程和系统及工艺的故障排除,我们客户化定制的PICOSUPPORT?综合解决方案24小时快速响应,随时待命。在购买之前,我们的演示服务保证了设备可以100%满足客户*苛刻的产线需求。

优质供应

详细内容

名称:原子层沉积系统
品牌:PICOSUN
产地:芬兰
型号:PICOSUN? ALD ALD P-300 系列


PICOSUN? ALD P-300 Pro:Picosun? 300mm生产线上的产品是300mm以下晶圆的自动化、高产量的工业ALD加工设备。包括PICOSUN? P系列Pro和Advanced ALD设备。该工具可以独立工作,也可以集成到PICOPLATFORM?300真空集群系统以达到更高的产量和自动化水平。为了节约昂贵的设施空间,所有PICOSUN?的ALD系统有着紧凑、高效的设计。集成的专业机柜,装载着前驱体和电子元件,保证了快速简便的维护和*短的停机时间。PICOSUN? P系列工具保证了产能以及*节约成本的情况下得到优秀的ALD工艺质量,并履行严格的现代半导体产业的生产力和安全要求。
工艺咨询和开发,产能提升,维护保养流程和系统及工艺的故障排除,我们客户化定制的PICOSUPPORT?综合解决方案24小时快速响应,随时待命。在购买之前,我们的演示服务保证了设备可以100%满足客户*苛刻的产线需求。


PICOSUN? 300 mm 生产线应用案例

集成电路组件微机电系统
   氧化物间隔层   扩散阻挡层
   间聚介质   耐磨涂层
   高K栅介质   电荷耗散层
   隧穿氧化物薄膜   导热层
   氧化物阻挡层   导电种子层
   钝化层   刻蚀阻挡层
   间隙填充层   电绝缘层
   覆盖层   防摩擦层
   铜阻挡层和阻挡层   防粘着层
   粘附层   光学薄膜
   扩散阻挡层    生物兼容层
    点极    密封层
    金属化    纳米孔封堵层


其他显示
    晶体管    钝化
    电容层    透明导电薄膜
    存储器    绝缘层
    读写磁头


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企业档案

  • 会员类型:免费会员
  • 工商认证: 【未认证】
  • 最后认证时间:
  • 法人:
  • 注册号:
  • 企业类型:个体商户
  • 注册资金:人民币万

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