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Picosun原子层沉积系统R-200 Advanced
点击次数：255发布时间：2020/6/2 15:42:39
更新日期：2020/6/2 15:42:39
所 在 地：
产品型号：ALD R-200 Advanced
优质供应
详细内容
名称：原子层沉积系统
品牌：PICOSUN
产地：芬兰
型号：PICOSUN? ALD R-200 Advanced
灵活的设计确保沉积高质量的ALD薄膜，超灵活的系统配置也能满足用户未来的需求和应用。的热壁设计、完全独立的前驱体管路和特殊的载气设计，使得无颗粒沉积广泛应用于平面晶圆、3D基片和所有纳米尺度的材料。即使在有挑战性的多孔材料、超高深宽比和纳米颗粒表面沉积，系统都能实现极好的均匀性，这些都归功于我们的技术Picoflow?。Picosun?R-200标准型系统配备功能强大和易于更换的液体、气体和固体前驱体源。系统可集成手套箱，粉末反应腔和各种在线分析系统，使您的研究变得高效和灵活。即使将来您改变研究领域，它仍然会是您的好帮手！
PICOSUN?R-200高级型ALD系统是一款研发型产品，应用领域广泛，例如：电子元器件， MEMS器件、显示器、发光二极管、激光器以及透镜、光学部件、珠宝、硬币、医疗植入物等3D部件。
客户使用PICOSUN? R系列ALD 设备在150mm和200mm（6”和8”）晶圆上所沉积薄膜厚度均匀性数据。
| 材料 | 非均匀性(1σ) |
| AI2O3 (batch) | 0.13 % |
| SiO2 (batch) | 0.77 % |
| TiO2 | 0.28 % |
| HfO2 | 0.47 % |
| ZnO | 0.94 % |
| Ta2O5 | 1.0 % |
| TiN | 1.10 % |
| CeO2 | 1.52 % |
| Pt | 3.41 % |
