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Picosun原子层沉积系统R-200 Advanced
点击次数:254发布时间:2020/6/2 15:42:39
更新日期:2020/6/2 15:42:39
所 在 地:
产品型号:ALD R-200 Advanced
优质供应
详细内容
名称:原子层沉积系统
品牌:PICOSUN
产地:芬兰
型号:PICOSUN? ALD R-200 Advanced
灵活的设计确保沉积高质量的ALD薄膜,超灵活的系统配置也能满足用户未来的需求和应用。的热壁设计、完全独立的前驱体管路和特殊的载气设计,使得无颗粒沉积广泛应用于平面晶圆、3D基片和所有纳米尺度的材料。即使在有挑战性的多孔材料、超高深宽比和纳米颗粒表面沉积,系统都能实现极好的均匀性,这些都归功于我们的技术Picoflow?。Picosun?R-200标准型系统配备功能强大和易于更换的液体、气体和固体前驱体源。系统可集成手套箱,粉末反应腔和各种在线分析系统,使您的研究变得高效和灵活。即使将来您改变研究领域,它仍然会是您的好帮手!
PICOSUN?R-200高级型ALD系统是一款研发型产品,应用领域广泛,例如:电子元器件, MEMS器件、显示器、发光二极管、激光器以及透镜、光学部件、珠宝、硬币、医疗植入物等3D部件。
客户使用PICOSUN? R系列ALD 设备在150mm和200mm(6”和8”)晶圆上所沉积薄膜厚度均匀性数据。
材料 | 非均匀性(1σ) |
AI2O3 (batch) | 0.13 % |
SiO2 (batch) | 0.77 % |
TiO2 | 0.28 % |
HfO2 | 0.47 % |
ZnO | 0.94 % |
Ta2O5 | 1.0 % |
TiN | 1.10 % |
CeO2 | 1.52 % |
Pt | 3.41 % |