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原子层沉积系统ALD - P-300 Pro

点击次数:138发布时间:2020/6/2 15:42:51

原子层沉积系统ALD - P-300 Pro

更新日期:2020/6/2 15:42:51

所 在 地:

产品型号:PICOSUN™ ALD P-300

简单介绍:PICOSUN? P-300系统已经成为高产能ALD制造业的新标准。拥有的热壁、完全独立的前驱体管路和特殊的载气设计,确保我们可以生产出具有优异的成品率、低颗粒水平和卓越的电学和光学性能的高质量ALD薄膜。高效紧凑的设计使得维护更加方便、快捷,减少了系统的维护停工期和使用成本。拥有技术的Picoflow?使得在超高深宽比结构上沉积保形性薄膜更高效,并已在生产线上得到验证。

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PICOSUN? P-300系统已经成为高产能ALD制造业的新标准。拥有的热壁、完全独立的前驱体管路和特殊的载气设计,确保我们可以生产出具有优异的成品率、低颗粒水平和卓越的电学和光学性能的高质量ALD薄膜。高效紧凑的设计使得维护更加方便、快捷,减少了系统的维护停工期和使用成本。拥有技术的Picoflow?使得在超高深宽比结构上沉积保形性薄膜更高效,并已在生产线上得到验证。


PICOSUN? P-300型原子层沉积系统是一款批量生产型设备,用于加工打印读头、传感器、麦克风等MEMS器件;以及透镜、各种光学部件、珠宝、硬币、医疗植入物等3D部件。


PICOSUN? P-300BV系统代表了工业化ALD工艺水平。这个系统是为半自动化的批量生产而设计。设备本身针对快速批量生产进行了优化,并允许通过SECS/GEM整合到自动化生产线上。拥有加热选项的真空加载系统可以对敏感的基底进行洁净加工并沉积金属氮化物薄膜。


PICOSUN? 300 mm 生产线应用案例

集成电路组件微机电系统
   氧化物间隔层   扩散阻挡层
   间聚介质   耐磨涂层
   高K栅介质   电荷耗散层
   隧穿氧化物薄膜   导热层
   氧化物阻挡层   导电种子层
   钝化层   刻蚀阻挡层
   间隙填充层   电绝缘层
   覆盖层   防摩擦层
   铜阻挡层和阻挡层   防粘着层
   粘附层   光学薄膜
   扩散阻挡层    生物兼容层
    点极    密封层
    金属化    纳米孔封堵层


其他显示
    晶体管    钝化
    电容层    透明导电薄膜
    存储器    绝缘层
    读写磁头


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  • 会员类型:免费会员
  • 工商认证: 【未认证】
  • 最后认证时间:
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  • 企业类型:个体商户
  • 注册资金:人民币万

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