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微波PECVD于中科院深圳先进院4周年
点击次数：237 发布时间：2022/7/26
NANO-MASTER的微波PECVD系统产品顺利应用于中科院深圳技术研究院，该系统即将配套远程微波等离子源，带直流偏压，支持高达900度的样品台加热，提供精确的控温，该系统可以支持石墨烯和CNT碳纳米管阵列。
根据客户要求，配套的远程微波源将真正实现对所沉积薄膜的无损伤。高温可以支持碳类薄膜的应用，在等离子作用下，实际的应用温度将得以大大降低。系统将采用计算机全自动的工艺控制，配套的软件将方便用户实现高重复性地沉积应用。该系统所采用的紧凑设计，将大大节省实验室的空间，并可以支持百的超净间使用。
NANO-MASTER PECVD系统能够沉积高质量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜，至大可达6” 直径的基片上，该系统采用淋浴头电或中空阴射频等离子源来产生等离子，具有分形气流分布的优势，样品台可以通过RF或脉冲DC产生偏压。并可以支持加热和循环冷却水的冷却.使用250l/sec涡轮分子泵及3.5 cfm的机械泵，腔体可以达到低至10-7 torr的真空。
- 标准配置包含1路惰性气体、3路活性气体管路和4个MFC
- 带有气体分布系统的平面中空阴等离子源使得系统可以满足广大范围的要求，无论是等离子强度、均匀度，还是要分别激活某些活性组份
- 系统可以覆盖z广的可能性来获得各种沉积参数。
