近日，NANO-MASTER工程师至广西师范大学，顺利安装验收NRE-3000型RIE反应离子刻蚀系统！

详细参数：

1.  腔体：10”直径的圆柱形腔体；阳氧化铝材质，抗腐蚀性强；上下盖设计，气动升降顶盖，一键实现上盖的开启/闭合；淋浴头设计，佳的气流均匀分布

2. 样品台：4”样品台；冷却功能；偏压功能，支持各向异性的垂直刻蚀；

3. 质量流量控制器：4路气体，每路包含MFC、气动截止阀和不锈钢管路气体

4. 真空系统：分子泵与机械泵，4分钟内可达10-4Torr的高工艺真空度，12小时抽气后，干净腔体中的压力可达限真空6x10-7 Torr；分子泵与工艺腔体采用直连设计方案，具有佳的真空传导率

5. 射频电源：13.56MHz，300W，反射功率≤5W，配套自动调谐器，稳定输出功率为95%

6. 控制系统：Lab View软件控制；四密码授权访问；压力、流量、功率等主要参数指标实时显示；20”的监控屏幕

7. 系统信息：26”×26”占地面积；铝质柜体；完全的安全联锁

8. 主要工艺参数

（1）应用范围：有机物刻蚀、硅的化合物刻蚀、光刻胶去胶等；

（2）工艺参数：4”片为例；

（3）刻蚀均匀性优于：+/-3%；

（4）Si3N4的刻蚀速率：≥50nm/min；

（5）对PR选择比：≥1.5:1；

（6）陡直度：≥82°；

（7）SiO2的刻蚀速率：≥40nm/min；

（8）对PR选择比：≥1.5:1；

（9）陡直度：≥85°。