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NEE-4000 (A) 全自动电子束蒸发系统

点击次数:117发布时间:2020/6/1 11:24:07

NEE-4000 (A) 全自动电子束蒸发系统

更新日期:2024/3/28 10:01:25

所 在 地:

产品型号:NEE-4000 (A)

简单介绍:NANO-MASTER NEE-4000电子束蒸发系统有两种不同的构造可供选择。种为垂直紧连的双腔架构,其中主腔体是14英寸的立方体,其内有样品台,底部二级腔体则用于安置电子束源。这种构造可在两个腔体之间装有门阀互锁,可实现主腔体放取片过程保持电子束源和坩埚的真空状态。若需实现自动上下片,通过在主腔体左边增加带真空阀门的进样室即可。这样,主腔体可以持续保持10-7托范围的低压,装片后几分钟内就可进行蒸镀。第二种构造为一个独立大腔体,基板上安装电子束蒸镀腔、磁控枪和热蒸镀。该构造可涂覆多种尺寸的晶圆,过程中使用行星运动的样品台。

优质供应

详细内容

电子束蒸发技术

NEE-4000(A)全自动电子束蒸发系统概述

NANO-MASTER NEE-4000电子束蒸发系统有两种不同的构造可供选择。种为垂直紧连的双腔架构,其中主腔体是14英寸的立方体,其内有样品台,底部二级腔体则用于安置电子束源。这种构造可在两个腔体之间装有门阀互锁,可实现主腔体放取片过程保持电子束源和坩埚的真空状态。若需实现自动上下片,通过在主腔体左边增加带真空阀门的进样室即可。这样,主腔体可以持续保持10-7托范围的低压,装片后几分钟内就可进行蒸镀。第二种构造为一个独立大腔体,基板上安装电子束蒸镀腔、磁控枪和热蒸镀。该构造可涂覆多种尺寸的晶圆,过程中使用行星运动的样品台。


NANO-MASTER
公司可通过样片掩膜实现组合蒸镀,并可通过电脑控制单个电子束蒸镀的蒸镀速率。


NEE-4000系统特点:

  • 电抛光14"立方体或21"x21"x22"不锈钢优化蒸镀腔体

  • 680 l/sec 涡轮分子泵,串接机械泵或干泵

  • 4x 15CC pocket电子枪

  • 电子束源和基片遮板

  • 6KW开关电源,杰出的消弧性能

  • 自动Pocket索引以及可编程的扫描控制器

  • 膜厚监测,可设置目标膜厚作为工艺终点条件

  • 旋转样品台,提供高均匀性

  • 带观察视窗的腔门,便于放片/取片

  • PC全自动控制,具有高度的可重复性

  • Labview软件的计算机全自动工艺控制控

  • 多级密码保护的授权访问设计

  • EMO保护以及完全的安全联锁


NEE-4000系统可选项:

  • 基片加热(可到800℃)或冷却

  • 带旋转的倾斜沉积

  • 行星运动式基片夹具

  • 基片RF/DC偏压

  • 基片清洗的离子源以及离子辅助蒸镀

  • 附加物理沉积源(热蒸镀,磁控溅射)

  • 用于反应蒸镀的MFC

  • 不同的泵组选择

  • 进样室和自动上下片/可支持单片和25片片夹


NEE-4000系统应用:

  • 剥离

  • 光学涂覆

  • 铜铟镓硒(CIGS)

  • 约瑟夫森连接

  • OLED

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企业档案

  • 会员类型:免费会员
  • 工商认证: 【未认证】
  • 最后认证时间:
  • 法人:
  • 注册号:
  • 企业类型:生产商
  • 注册资金:人民币万

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