您的位置:易推广 > 实验室设备 > 清洗消毒设备 > 等离子清洗器 > 那诺-马斯特中国有限公司 > 产品展示 > 电子/半导体 > NIE-3000 (C) 离子束清洗系统

产品展示

NIE-3000 (C) 离子束清洗系统

点击次数:90发布时间:2020/6/1 11:25:50

NIE-3000 (C) 离子束清洗系统

更新日期:2024/3/28 10:01:25

所 在 地:

产品型号:NIE-3000 (C)

简单介绍:NIE-3000 (C) 离子束清洗系统产品概述:该系统为手动放片取片,但通过计算机全自动实现工艺控制的台式离子束刻蚀系统,系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。该系统所配套的所有核心组件均为知名品牌。

优质供应

详细内容

Ion Beam离子束清洗

NIE-3000 (C) 离子束清洗系统产品概述:该系统为手动放片取片,但通过计算机全自动实现工艺控制的台式离子束刻蚀系统,系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。该系统所配套的所有核心组件均为知名品牌。

NIE-3000 (C) 离子束清洗系统产品特点:

  • 低成本

  • 离子束:高达2KV/10mA

  • 离子电流密度100-360uA/cm2

  • 离子束直径:4",5",6"

  • 兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)

  • 极限真空5x10-7Torr

  • 260l/s涡轮分子泵,串接500 l/min干泵

  • 14"不锈钢或铝质腔体

  • 水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500)

  • 自动上下载片(NIE-3500)

  • 基于LabView软件的PC计算机全自动控制

  • 占地面积30"x30"

NIE-3000 (C) 离子束清洗系统产品应用:

  • 表面处理

  • 离子铣

  • 表面清洗

  • 带活性气体的离子束刻蚀:  光栅刻蚀,以及SiO2,Si和金属的深槽刻蚀

NIE-3000 (C) 离子束清洗系统 Features:

  • Low Cost

  • Ion Beam: Up to 2KV/10mA  

  • Ion Current Density 100-360 μA/cm2 

  • Ion Beam Size: 4”, 5”, 6”

  • Compatible with Reactive and Non-Reactive Gases (Ar, O2, CF4,Cl2) 

  • Base Pressure 5x10-7 Torr 

  • 260 l/sec Corrosive Turbo Pump with 500 l/min Dry Scroll Pump

  • 14” SS or Al Chambers

  • Water Cooled Rotating/Tilted Platen (NIE-3500)

  • Auto Load and Unload (NIE-3500)

  • PC Controlled with LabVIEW Software

  • Footprint 30”x30”

NIE-3000 (C) 离子束清洗系统 Applications:

  • Surface Cleaning 

  • Surface Treatment 

  • Ion Beam Milling

  • Ion Beam Etching with Reactive Gases:
          Grating
          Deep Trenches on SiO2, Si and metals


联系我们

联系人:张经理

点击查看联系方式

企业档案

  • 会员类型:免费会员
  • 工商认证: 【未认证】
  • 最后认证时间:
  • 法人:
  • 注册号:
  • 企业类型:生产商
  • 注册资金:人民币万

script>
在线咨询

提交