等离子辅助MOCVD技术

NMC-3000 MOCVD系统概述：

        NANO-MASTER针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5 x 10^-7Torr极限真空)、PC全自动控制，完全的安全互锁。

         目前，这项技术延伸到5个4"晶圆的立柜式独立批处理系统，该系统可以集成到集群配置中以满足高产量的要求。

NMC-3000 PAMOCVD系统应用：

• III-V族半导体层

• 蓝光及绿光LED

• 激光二极管

• 在紫外-红外光电中的InN纳米棒

• 在3D和2D材料中的MoS2，BN和石墨烯沉积

NMC-3000 PAMOCVD系统特点：

• 台式系统

• 5个带独立冷却槽的起泡器

• 加热的气体管路

• 950 °C样品台，2”晶圆片

• 3个气体环

• RF等离子源，带淋浴头气体分布

• 工艺完成后N2自动冲洗

• 极限真空5x10-7Torr

• 260 l/s的涡轮分子泵串接无油干泵

• 通过LabView软件实现PC计算机全自动控制

• 菜单驱动，4级密码访问控制

• 完整的安全联锁

NMC-3000 PAMOCVD系统 选配：

• 独立式系统

• ICP或者微波等离子源

• 14”立方的电抛光不锈钢腔体

• 8”或者12”的基片夹具

• 700°C旋转基片夹具用于6”样品台，950°C用于4”样品台

• 增加鼓泡器和MFC

• 自动上下片

• 集群配置可兼容