等离子辅助MOCVD技术

NMC-4000（M）PAMOCVD系统概述：NANO-MASTER针对InGaN及AlGaN沉积工艺所研发的台式等离子辅助金属有机化学气相沉积系统(PA-MOCVD),该系统具有5个鼓泡装置(各带独立的冷却槽)、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵(5 x 10^-7Torr极限真空)、PC全自动控制，完全的安全互锁。

目前，这项技术延伸到5个4"晶圆的立柜式独立批处理系统，该系统可以集成到集群配置中以满足高产量的要求。

NMC-4000（M）PAMOCVD系统应用：Green LED’s (GaN, InGaN, AlGaN, ...)

NMC-4000（M）PAMOCVD系统特点：

• 独立系统

• 14”不锈钢立方体腔体

• 1次在8”样品台上处理1个6”晶圆片或在12”样品台上处理5片4”片子

• 加热的气体管路

• RF等离子源，自动调谐

• 淋浴头气体分布

• 1100°C的旋转样品台

• N2冲洗

• 手动放置晶圆片

NMC-4000（M）PAMOCVD系统 Features：

• Stand Alone System

• 14” Stainless Steel Cube Chamber

• One 6” Wafer with 8” Platen or five 4” Wafers on 12” platen

• Heated Gas Lines

• RF Plasma Source with Auto Tuner

• Shower Head Gas Distribution

• 1100 °C Platen, Rotating

• N₂ Flush

• Manual wafer Loading and Unloading