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NRE-4000 (A) 全自动反应离子刻蚀

点击次数:95发布时间:2020/6/1 11:33:17

NRE-4000 (A) 全自动反应离子刻蚀

更新日期:2024/3/28 10:00:47

所 在 地:

产品型号:NRE-4000 (A)

简单介绍:NRE-4000是一款独立式RIE反应离子刻蚀系统,配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2"的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持到12”的晶圆片。腔体为超净设计,并且根据配套的真空泵可以达到10-6 Torr 或更小的极限真空。该系统系统可以在20mTorr到8Torr之间的真空下工作。真空泵组包含一个节流阀,一个250l/s的涡轮分子泵,滤网过滤器,以及一个10cfm的机械泵(带Formblin泵油).RF射频功率通过600W,13.56MHz的电源和自动调谐器提供。系统将持续监控直流自偏压,该自偏压可以高达-500V.这对于各向异性的刻蚀至关重要。

优质供应

详细内容

反应离子刻蚀

NRE-4000(A)全自动反应离子刻蚀概述:

NRE-4000是一款独立式RIE反应离子刻蚀系统,配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2"的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持到12”的晶圆片。腔体为超净设计,并且根据配套的真空泵可以达到10-6 Torr 或更小的极限真空。该系统系统可以在20mTorr8Torr之间的真空下工作。真空泵组包含一个节流阀,一个250l/s的涡轮分子泵,滤网过滤器,以及一个10cfm的机械泵(Formblin泵油).RF射频功率通过600W,13.56MHz的电源和自动调谐器提供。系统将持续监控直流自偏压,该自偏压可以高达-500V.这对于各向异性的刻蚀至关重要。

该系统是基于PC控制的全自动系统.系统真空压力及DC直流偏压将以图形格式实时显示,流量及功率则以数字形式实时显示.系统提供密码保护的四级访问功能:操作员级、工程师级、工艺人员级,以及维护人员级.允许半自动模式(工程师模式)、写程序模式(工艺模式), 和全自动执行程序模式(操作模式)运行系统。基于全自动的控制,该系统具有高度的可重复性。

NRE-4000(A)全自动反应离子刻蚀产品特点:

  • 铝质腔体或不锈钢腔体

  • 不锈钢立柜

  • 能够刻蚀硅的化合物(~400? /min)以及金属

  • 典型的硅刻蚀速率,400 ?/min

  • 高达12”的阳极氧化铝RF样品台

  • 水冷及加热的RF样品台

  • 大自偏压

  • 淋浴头气流分布

  • 极限真空5x10-7Torr20分钟内可以达到10-6Torr级别

  • 涡轮分子泵

  • *多支持8MFC

  • 无绕曲气体管路

  • 自动下游压力控制

  • 双刻蚀能力支持:RIE以及PE刻蚀(可选)

  • 终点监测

  • 气动升降顶盖

  • 自动上下载片

  • 预真空锁

  • 基于LabView软件的PC计算机全自动控制

  • 菜单驱动,4级密码访问保护

  • 完全的安全联锁

  • 可选ICP离子源以及低温冷却样品台,用于深硅刻蚀

NRE-4000(A)全自动反应离子刻蚀 Features:

  • Aluminum or Stainless Steel Chamber

  • Stainless Steel Cabinet

  • Capable of etching Si compounds (~400 ? /min)and metals

  • Typical Si etch rate, 400 ?/min

  • Up to 12“ Anodized RF Platen

  • Water Cooled and Heated RF Platen

  • Large Self Bias

  • Shower Head gas distribution

  • Approximately 10-6 Torr < 20 minutes, ~ 5 x10-7 Torr base pressure

  • Turbomolecular Pump

  • Up to eight MFCs

  • No flexing of gas lines

  • Down Stream Pressure Control

  • Dual Etch capability: RIE and Plasma Etch(Option)

  • End Point Detection

  • Pneumatically Lifted Top

  • Automatic loading/unloading

  • Load Lock

  • PC Controlled with LabVIEW

  • Recipe Driven, Password Protected

  • ully Safety Interlocked 

  • Optional ICP source and cryogenic cooling of the platen for deep Si etch


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企业档案

  • 会员类型:免费会员
  • 工商认证: 【未认证】
  • 最后认证时间:
  • 法人:
  • 注册号:
  • 企业类型:生产商
  • 注册资金:人民币万

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