IBE离子束刻蚀

NIE-3000IBE离子束刻蚀产品概述：该系统为手动放片取片，但通过计算机全自动实现工艺控制的台式离子束刻蚀系统，系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。该系统所配套的所有核心组件均为知名品牌。

NIE-3000IBE离子束刻蚀产品特点：

• 低成本

• 离子束：高达2KV/10mA

• 离子电流密度100-360uA/cm2

• 离子束直径：4",5",6"

• 兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)

• 极限真空5x10-7Torr

• 260l/s涡轮分子泵，串接500 l/min干泵

• 14"不锈钢或铝质腔体

• 水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500)

• 自动上下载片（NIE-3500）

• 基于LabView软件的PC计算机全自动控制

• 占地面积30"x30"

NIE-3000IBE离子束刻蚀产品应用：

• 表面处理

• 离子铣

• 表面清洗

• 带活性气体的离子束刻蚀：  光栅刻蚀，以及SiO2，Si和金属的深槽刻蚀

NIE-3000IBE离子束刻蚀 Features：

• Low Cost

• Ion Beam: Up to 2KV/10mA  

• Ion Current Density 100-360 μA/cm2 

• Ion Beam Size: 4”, 5”, 6”

• Compatible with Reactive and Non-Reactive Gases (Ar, O2, CF4,Cl2) 

• Base Pressure 5x10-7 Torr 

• 260 l/sec Corrosive Turbo Pump with 500 l/min Dry Scroll Pump

• 14” SS or Al Chambers

• Water Cooled Rotating/Tilted Platen (NIE-3500)

• Auto Load and Unload (NIE-3500)

• PC Controlled with LabVIEW Software

• Footprint 30”x30”

NIE-3000IBE离子束刻蚀 Applications：

• Surface Cleaning 

• Surface Treatment 

• Ion Beam Milling

• Ion Beam Etching with Reactive Gases:
        Grating
        Deep Trenches on SiO2, Si and metals