为您带来的优势

    性能

      独特的三离子束系统，可获得*佳的截面处理质量，并可高效获得宽且深的切割区域，大大降低工作时间。并可实现在一次处理过程中*多处理3个样品。因此对有高通量需求的实验室，徕卡EM TIC 3X是*佳解决方案。

   可装配系统

       根据您的样品制备需要，可以有针对性地在徕卡EM TIC 3X上装配一体化设计样品台－标准样品台，多样品台或冷冻样品台。

    冷冻样品台

       针对温度敏感型样品如橡胶或水溶性高分子聚合纤维等，可以使用冷冻样品台对样品进行低温下处理，获得高质量处理结果。样品托和挡板的温度都可达到-150° C。

     样品托

       多种多样的样品托，适合于各类尺寸样品。

    样品TOPO结构清晰可见

        除了剖面切割，使用同一样品托还可对样品进行清洁及增强衬度的功能。

    Leica EM TIC 3X - 设计和操作方面的创新性特点

        高通量，提高成本收益；可获得高质量切割截面， 区域尺寸可达>4×1mm； 多样品台设计可一次运行容纳三个样品； 离子研磨速率高，Si材料150μm/h，50μm切割高度，可满足实验室高通量要求； 可容 纳 * 大 样 品 尺 寸 为50×50×10mm；可使用的样品载台多种多样简单易用，高精度；可简易准确地完成将样品安装到载台上以及调节与挡板相对位置的校准工作；通过触摸屏进行简单操控，不需要特别的操作技巧；样品处理过程可实时监控，可以通过体视镜或HD-TV摄像头观察；LED照明，便于观察样品和位置校准；内置式，解耦合设计的真空泵系统，提供一个无振动的观察视野；可在制备好的平整的切割截面上可再进行衬度增强作用，即离子束刻蚀处理；通过USB即可进行参数和程序的上传或下载；几乎适用于任何材质样品；使用冷冻样品台，挡板和样品温度可降至–150°CL 。