型号规格：PDC－BGL
整机规格：750×780×1660（长×宽×高）mm
整机重量：400 Kg
反应舱规格：600×470×470（长×宽×高）mm(不锈钢)反应舱有效容积：110 L
输入电源：380（三相）V／50Hz
整机输入功率：2500 W（含真空泵）
射频功率：0～1000Ｗ（连续可调）
射频频率：13.56 MHz
数字定时器：0～99.99 min
极限真空度： 50 Pa
浮子流量计： 0.1～1.6 L／min 量程
观察窗： 观察清洗舱内辉光状态
常用工作气体： 空气、氩气、氮气或混合气体等
设备优点：
整机一体化、结构紧凑、安装方便。
常温条件下对样品进行非破坏性超清洗。
清除样品表面的有机污染物。
气体清洗介质使样品清洗后无二次污染。
设备操作简单方便，使用成本极低，易于维护。
具有表面清洗、表面活化、表面刻蚀和表面沉积的功能。
应用领域：
LED、LCD、PCB、触电子生产领域中的超清洗。
移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质，去除金属材料表面的氧化物。
清洗半导体元件、印刷线路板、ATR元件、人工晶体、天然晶体和宝石。
封装领域中的清洗和改性，增强其粘附性，适用于直接封装殛粘和。
涂覆镀膜领域中对玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面改性，使其活化，增强
表面粘附性、浸润性、相容性，显著提高涂覆镀膜质量。