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详细内容
- 产品信息
- 名称： 硅靶材/Si Target
- 纯度： 99.999%
- 尺寸： φ50.8*3，φ76.2*3 可定制
- 品牌： 金源新材
- 优势： 纯度高，导电性能好
- 用途： 磁控溅射镀膜
- 工艺： 熔炼
- 包装：真空包装
- 交货期：现货，订制商品10个工作日
- 运输：顺丰快递
- 起订量：1片
- 网站：www.ginsrc.com
- 电话：/
- 邮箱：sales@ginsrc.com
- 北京金源新材新材提供的金属靶材按照生产工艺分为熔炼铸造法和粉末冶金法两种：
金属靶材如铝、铜、铁、镍等均采用熔炼铸造工艺，以高纯金属为原料，通过熔炼、锻造、热处理和精密机械加工而成；产品优势：纯度高，晶粒尺寸小而均匀，表面平整。
难熔金属靶材如钨、钼、钽、铌、铬等均采用粉末冶金工艺，以高纯超细粉末为原料，通过热等静压等工艺加工成坯，轧制热处理，精密机加工后制成靶材；产品优势：靶材孔隙率低，相对密度高，结构均匀。
北京金源新材新材提供的金属靶材按照生产工艺分为熔炼铸造法和粉末冶金法两种：
金属靶材如铝、铜、铁、镍等均采用熔炼铸造工艺，以高纯金属为原料，通过熔炼、锻造、热处理和精密机械加工而成；产品优势：纯度高，晶粒尺寸小而均匀，表面平整。
难熔金属靶材如钨、钼、钽、铌、铬等均采用粉末冶金工艺，以高纯超细粉末为原料，通过热等静压等工艺加工成坯，轧制热处理，精密机加工后制成靶材；产品优势：靶材孔隙率低，相对密度高，结构均匀。
