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真空紫外椭偏仪专为VUV 测量设计，整个系统处于真空状态，无氧气吸收。具备高度准确性；*的超快测量速度；快速样品室抽真空能力，方便快速更换样品；氮气消耗量少。
真空紫外椭偏仪产品特点
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50KHz 高频PEM 相位调制技术
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45 秒内完成充氮气
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2 分钟内完成样品室抽真空
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8 分钟内完成光谱全谱范围内测量
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两种工作模式：氮气清洗结合抽
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真空、连续氮气清洗
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光谱范围：147nm~850nm；147nm~2100nm
重点应用领域
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超薄膜
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157nm 光刻新材料
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有机材料、高分子材料
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高k 材料：HfO2、Al2O3、TiO2、HfxAlyOz
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抗反射涂层
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半导体和介电材料电子跃迁
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MgF2、CaF2、LaF3
