Pioneer240,180, 120,80脉冲激光沉积系统
脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80

产品介绍

脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 主要特点：

 

PLD概念清晰易懂：激光束使靶子表面蒸发，生产出与靶子同样化学组成的膜。

PLD应用广泛：很多材料在多样的气体环境和很宽的气体压力范围内都可以镀膜。

PLD节省成本：束激光能够供多个空系统使用。

PLD高*效率：在10至15分钟，可生长*高质量的样品。

PLD可升：当需要大批量生产复合氧化物膜时，Neocera公司将证明PLD作为生产工具的价值。

 

PLD 是种复杂材料沉积的有效方法

脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition）是种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜。PLD 的独特之处是能量源（脉冲激光）位于空室的外面。这样，在材料合成时，工作压力的动态范围很宽，达到10-10 Torr ~ 100 Torr。通过控制镀膜压力和温度，可以合成系列具有独特功能的纳*米结构和纳*米颗粒。另外，PLD 是种“ 数字” 技术，在纳*米尺度上进行工艺控制（?/pulse）。

 

Neocera 在PLD 设备与工艺开发方面具有不可超越的经验

 

Pioneer 系列PLD 系统是研发域为广泛使用的商业化系统

 

Neocera 不仅为客户提供基本的PLD 系统，也提供完整的PLD 实验室交钥匙方案

 

 

产品参数

脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 技术参数：

 

型号

 

Pioneer240

 

Pioneer180

 

Pioneer120

 

Pioneer80

 

大wafer直径

 

8”

 

6”

 

2”

 

1”

 

大靶材数量

 

6个1” 或4个2”

 

6个1” 或4个2”

 

6个1” 或3个2”

 

4个1”

 

压力(Torr)

 

<10-8

 

<10-8

 

<10-8

 

<10-8

 

空室直径

 

24”

 

18”

 

12”  

 

8”

 

基片加热器

 

8”，旋转

 

6”，旋转

 

3”， 旋转

 

2”，旋转

 

高样品温度

 

850 ° C

 

850 ° C

 

950 ° C

 

950 ° C

 

Turbo泵抽速

（liters/sec）

 

800

 

260

 

260

 

70

 

计算机控制

 

包括

 

包括

 

包括

 

包括

 

基片旋转

 

包括

 

包括

 

-

 

-

 

基片预空室

 

包括

 

选件

 

选件

 

-

 

扫描激光束系统

 

包括

 

选件

 

-

 

-

 

靶预空室

 

包括

 

-

 

-

 

-

 

IBAD离子束辅助沉积

 

选件

 

选件

 

选件

 

-

 

CCS连续组成扩展

 

选件

 

选件

 

-

 

-

 

高压RHEED

 

选件

 

-

 

-

 

-

 

520 liters/sec泵

 

a/n

 

选件

 

-

 

-

 

 

产品介绍

脉冲激光沉积系统Pioneer240,180, 120,80 — 基于卓*越经验的创新设计

Neocera 利用PLD 开展了深入广泛的研究，建立了获得zui佳薄膜质量的临界参数，特别适用于沉积复杂氧化物薄膜。

这些思考已经应用于Pioneer 系统的设计之中。

很多复杂氧化物薄膜在相对高的氧压（>100 Torr）下冷却可获得更高的质量。所有Pioneer 系统都具备此功能（压力范围可从额定初始压强到大气压）。这也有益于纳*米粒子的生成。

Pioneer PLD 系统的激光束入射角为45°，保持了激光密度在靶材上的zui大均匀性，同时避免使用复杂而昂贵的光学部件。更大的入射角能够拉长靶材上的激光斑点，导致密度均匀性的损失。

为了避免使用昂贵的与氧气兼容的空泵，消*除油的回流对薄膜质量的影响，所有Pioneer 系统的标准配置都采用无油泵系统。

我们的研究表明靶和基片的距离是获得zui佳薄膜质量的关键参数。Pioneer 系统可以控制靶材和基片的距离，以达到zui优的沉积条件。