磁控溅射镀膜机
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品牌名称：$brandModel.Title(进口品牌)型号：JGC-40 原产地：中国大陆 发布时间：2020/12/31 11:07:08更新时间：2024/11/8 15:29:21
产品摘要：磁控溅射镀膜机JGC-40基片座：φ75×3磁控靶：φ75×1（个直流源，个频源）样品手动换位样品自转可调速：0-30rpm样品温度：400±3°（可冷水）适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
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详细内容
JGC-40磁控溅射镀膜机
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座：φ75×3
磁控靶：φ75×1（个直流源，个频源）
样品手动换位
样品自转可调速：0-30rpm
样品温度：400±3°（可冷水）
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座：φ75×3
磁控靶：φ75×1（个直流源，个频源）
样品手动换位
样品自转可调速：0-30rpm
样品温度：400±3°（可冷水）
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座：φ75×3
磁控靶：φ75×1（个直流源，个频源）
样品手动换位
样品自转可调速：0-30rpm
样品温度：400±3°（可冷水）
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座：φ75×3
磁控靶：φ75×1（个直流源，个频源）
样品手动换位
样品自转可调速：0-30rpm
样品温度：400±3°（可冷水）
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座：φ75×3
磁控靶：φ75×1（个直流源，个频源）
样品手动换位
样品自转可调速：0-30rpm
样品温度：400±3°（可冷水）
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
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产品参数
基片座：φ75×3
磁控靶：φ75×1（个直流源，个频源）
样品手动换位
样品自转可调速：0-30rpm
样品温度：400±3°（可冷水）
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
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产品参数
基片座：φ75×3
磁控靶：φ75×1（个直流源，个频源）
样品手动换位
样品自转可调速：0-30rpm
样品温度：400±3°（可冷水）
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
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产品参数
基片座：φ75×3
磁控靶：φ75×1（个直流源，个频源）
样品手动换位
样品自转可调速：0-30rpm
样品温度：400±3°（可冷水）
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
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产品参数
基片座：φ75×3
磁控靶：φ75×1（个直流源，个频源）
样品手动换位
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样品温度：400±3°（可冷水）
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
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产品参数
基片座：φ75×3
磁控靶：φ75×1（个直流源，个频源）
样品手动换位
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样品温度：400±3°（可冷水）
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磁控靶：φ75×1（个直流源，个频源）
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基片座：φ75×3
磁控靶：φ75×1（个直流源，个频源）
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基片座：φ75×3
磁控靶：φ75×1（个直流源，个频源）
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样品温度：400±3°（可冷水）
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基片座：φ75×3
磁控靶：φ75×1（个直流源，个频源）
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样品温度：400±3°（可冷水）
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基片座：φ75×3
磁控靶：φ75×1（个直流源，个频源）
样品手动换位
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样品温度：400±3°（可冷水）
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座：φ75×3
磁控靶：φ75×1（个直流源，个频源）
样品手动换位
样品自转可调速：0-30rpm
样品温度：400±3°（可冷水）
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座：φ75×3
磁控靶：φ75×1（个直流源，个频源）
样品手动换位
样品自转可调速：0-30rpm
样品温度：400±3°（可冷水）
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座：φ75×3
磁控靶：φ75×1（个直流源，个频源）
样品手动换位
样品自转可调速：0-30rpm
样品温度：400±3°（可冷水）
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺 磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座：φ75×3
磁控靶：φ75×1（个直流源，个频源）
样品手动换位
样品自转可调速：0-30rpm
样品温度：400±3°（可冷水）
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
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产品参数
基片座：φ75×3
磁控靶：φ75×1（个直流源，个频源）
样品手动换位
样品自转可调速：0-30rpm
样品温度：400±3°（可冷水）
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
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产品参数
基片座：φ75×3
磁控靶：φ75×1（个直流源，个频源）
样品手动换位
样品自转可调速：0-30rpm
样品温度：400±3°（可冷水）
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
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产品参数
基片座：φ75×3
磁控靶：φ75×1（个直流源，个频源）
样品手动换位
样品自转可调速：0-30rpm
样品温度：400±3°（可冷水）
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
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产品参数
基片座：φ75×3
磁控靶：φ75×1（个直流源，个频源）
样品手动换位
样品自转可调速：0-30rpm
样品温度：400±3°（可冷水）
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
热门标签：JGC-40磁控溅射镀膜机
