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上海非利加实业有限公司 主营产品:仪器仪表设备,进口国产实验测试分析仪器,检测测量仪器,生命科学环境监测仪器

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Rohs检测仪 镀层测厚仪膜测厚仪

价格:¥电议

品牌名称:$brandModel.Title(进口品牌)型号:X荧光能谱仪 原产地:中国大陆 发布时间:2020/12/31 11:42:06更新时间:2024/12/26 10:25:44

产品摘要:美国赛黙飞世尔ThermoFisher(美国热电)能量色散X-射线荧光光谱仪(ED-XRF)技术参数样品室 样品类型 固体、粉末、液体、滤渣、镀层和其它 尺寸 30.5cm(w)x38.9cm(D)x6.6cm(H)增高室(选购件): 21.5cm或37.1cm单位盘 样品可大至样品室大

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旗舰版地址:http://www.shflj021.com

详细内容


X荧光能谱仪Rohs检测仪 镀层测厚仪膜测厚仪
美国赛黙飞世尔ThermoFisher(美国热电)能量色散X-射线荧光光谱仪(ED-XRF)

技术参数
样品室 

样品类型 固体、粉末、液体、滤渣、镀层和其它 

尺寸 30.5cm(w)x38.9cm(D)x6.6cm(H)
增高室(选购件): 21.5cm或37.1cm
单位盘 样品可大至样品室大小
10位盘(选购件) 带自转机构,样品可大至47mm
20位盘(选购件) 样品可大至31mm
自动和手动盘 为特种样品用的样品盘,选购件
环境 空气、真空(选购件)和充氦(选购件)

激发
X-光管 超高通量,端窗,RH靶,76um铍窗,空气冷却,其它靶可选
X-光发生器 4-50KV,1KV间隔。O.02-2.OmA,0.02mA 间隔
滤光片 7种滤光片加1空位,自动选择
准直器(选购件) 1.0、2.0、3.5、6.8和8.8 五种

检测配置器
Si(Li)电致冷 Si(Li)面积15mm2,分辨率<155 eV
Si(Li)LN Si(Li)面积30mm2,分辨率<149 eV

数据采集
数字脉冲处理器 全部参数程序控制,自动能量校正
多道脉冲分析器 32位,4096道多道分析器
数据接口 计算机以太网接口

分析处理器和WinTrace
计算机/打印机 主流计算机和彩色打印机
显示 X-射线能谱,重叠谱比较,峰鉴定标记,分析参数
输出 监视器,图形打印机和调制解调器
自动化 样品室环境,X射线源输出,滤光片选择,多次激发条件,
和样品选择
谱处理 自动元素鉴定,数字滤波本底扣除,小二乘法经验峰去卷积,
总峰强度,和净峰强度
分析技术 经验系数法和基本参数法,归化,校正曲线图显示
操作系统 微软WindowsXP及更新的版本

尺寸和重量
外形尺寸 宽71.88cm,高41.15cm,深59.18cm
重量 90.7kg

使用要求
电源 100、115或230VAC,50或60hz,功率1000W,真空泵需2000W
电话 遥控诊断和遥控监测需要通过因特网连线

环境要求
温度 O~32℃
湿度 20~80%RH(无冷凝水)

参考方法
ASTM方法
D5839-96(2001) X-荧光能谱法测定危险废燃料中痕量元素的标准测试方法
D6052.97 X-荧光能谱法对液体危险废料中元素分析的标准测试方法

主要特点

超大Si(Li) 晶体,具有高的痕量分析的灵敏度,打破lng的检测限壁垒 

全数字脉冲处理器技术,死时间达60%, 以及优异的峰背比
高FP无标样分析软件,进行无标样分析,减少对标样的依赖性
高灵敏电制冷Si(Li) 探测器技术, 仪器免维护和零费用运行
超大样品室,可容纳300mm400mm的样品
全自动校准,自动监测,自动报警系统,完全计算机控制
镀层和薄膜测量技术, 具有无标样分析测厚技术
ARL QUANT''X 应用

气溶胶颗粒滤膜
应对RoHS & WEEE 指令分析
刑侦以及痕量分析
营养添加剂
磁性磁性介质、半导体器件、PCB板等镀层镀膜(叠层)测厚及材料分析
高性能,操作简便WinTrace软件

直观
功能强大
安全
操作灵活,方便用户

【应 用】

【样品盘选件】
 美国赛黙飞世尔ThermoFisher(美国热电)能量色散X-射线荧光光谱仪(ED-XRF)

技术参数
样品室 

样品类型 固体、粉末、液体、滤渣、镀层和其它 

尺寸 30.5cm(w)x38.9cm(D)x6.6cm(H)
增高室(选购件): 21.5cm或37.1cm
单位盘 样品可大至样品室大小
10位盘(选购件) 带自转机构,样品可大至47mm
20位盘(选购件) 样品可大至31mm
自动和手动盘 为特种样品用的样品盘,选购件
环境 空气、真空(选购件)和充氦(选购件)

激发
X-光管 超高通量,端窗,RH靶,76um铍窗,空气冷却,其它靶可选
X-光发生器 4-50KV,1KV间隔。O.02-2.OmA,0.02mA 间隔
滤光片 7种滤光片加1空位,自动选择
准直器(选购件) 1.0、2.0、3.5、6.8和8.8 五种

检测配置器
Si(Li)电致冷 Si(Li)面积15mm2,分辨率<155 eV
Si(Li)LN Si(Li)面积30mm2,分辨率<149 eV

数据采集
数字脉冲处理器 全部参数程序控制,自动能量校正
多道脉冲分析器 32位,4096道多道分析器
数据接口 计算机以太网接口

分析处理器和WinTrace
计算机/打印机 主流计算机和彩色打印机
显示 X-射线能谱,重叠谱比较,峰鉴定标记,分析参数
输出 监视器,图形打印机和调制解调器
自动化 样品室环境,X射线源输出,滤光片选择,多次激发条件,
和样品选择
谱处理 自动元素鉴定,数字滤波本底扣除,小二乘法经验峰去卷积,
总峰强度,和净峰强度
分析技术 经验系数法和基本参数法,归化,校正曲线图显示
操作系统 微软WindowsXP及更新的版本

尺寸和重量
外形尺寸 宽71.88cm,高41.15cm,深59.18cm
重量 90.7kg

使用要求
电源 100、115或230VAC,50或60hz,功率1000W,真空泵需2000W
电话 遥控诊断和遥控监测需要通过因特网连线

环境要求
温度 O~32℃
湿度 20~80%RH(无冷凝水)

参考方法
ASTM方法
D5839-96(2001) X-荧光能谱法测定危险废燃料中痕量元素的标准测试方法
D6052.97 X-荧光能谱法对液体危险废料中元素分析的标准测试方法

主要特点

超大Si(Li) 晶体,具有高的痕量分析的灵敏度,打破lng的检测限壁垒 

全数字脉冲处理器技术,死时间达60%, 以及优异的峰背比
高FP无标样分析软件,进行无标样分析,减少对标样的依赖性
高灵敏电制冷Si(Li) 探测器技术, 仪器免维护和零费用运行
超大样品室,可容纳300mm400mm的样品
全自动校准,自动监测,自动报警系统,完全计算机控制
镀层和薄膜测量技术, 具有无标样分析测厚技术
ARL QUANT''X 应用

气溶胶颗粒滤膜
应对RoHS & WEEE 指令分析
刑侦以及痕量分析
营养添加剂
磁性磁性介质、半导体器件、PCB板等镀层镀膜(叠层)测厚及材料分析
高性能,操作简便WinTrace软件

直观
功能强大
安全
操作灵活,方便用户

【应 用】

【样品盘选件】 美国赛黙飞世尔ThermoFisher(美国热电)能量色散X-射线荧光光谱仪(ED-XRF)

技术参数
样品室 

样品类型 固体、粉末、液体、滤渣、镀层和其它 

尺寸 30.5cm(w)x38.9cm(D)x6.6cm(H)
增高室(选购件): 21.5cm或37.1cm
单位盘 样品可大至样品室大小
10位盘(选购件) 带自转机构,样品可大至47mm
20位盘(选购件) 样品可大至31mm
自动和手动盘 为特种样品用的样品盘,选购件
环境 空气、真空(选购件)和充氦(选购件)

激发
X-光管 超高通量,端窗,RH靶,76um铍窗,空气冷却,其它靶可选
X-光发生器 4-50KV,1KV间隔。O.02-2.OmA,0.02mA 间隔
滤光片 7种滤光片加1空位,自动选择
准直器(选购件) 1.0、2.0、3.5、6.8和8.8 五种

检测配置器
Si(Li)电致冷 Si(Li)面积15mm2,分辨率<155 eV
Si(Li)LN Si(Li)面积30mm2,分辨率<149 eV

数据采集
数字脉冲处理器 全部参数程序控制,自动能量校正
多道脉冲分析器 32位,4096道多道分析器
数据接口 计算机以太网接口

分析处理器和WinTrace
计算机/打印机 主流计算机和彩色打印机
显示 X-射线能谱,重叠谱比较,峰鉴定标记,分析参数
输出 监视器,图形打印机和调制解调器
自动化 样品室环境,X射线源输出,滤光片选择,多次激发条件,
和样品选择
谱处理 自动元素鉴定,数字滤波本底扣除,小二乘法经验峰去卷积,
总峰强度,和净峰强度
分析技术 经验系数法和基本参数法,归化,校正曲线图显示
操作系统 微软WindowsXP及更新的版本

尺寸和重量
外形尺寸 宽71.88cm,高41.15cm,深59.18cm
重量 90.7kg

使用要求
电源 100、115或230VAC,50或60hz,功率1000W,真空泵需2000W
电话 遥控诊断和遥控监测需要通过因特网连线

环境要求
温度 O~32℃
湿度 20~80%RH(无冷凝水)

参考方法
ASTM方法
D5839-96(2001) X-荧光能谱法测定危险废燃料中痕量元素的标准测试方法
D6052.97 X-荧光能谱法对液体危险废料中元素分析的标准测试方法

主要特点

超大Si(Li) 晶体,具有高的痕量分析的灵敏度,打破lng的检测限壁垒 

全数字脉冲处理器技术,死时间达60%, 以及优异的峰背比
高FP无标样分析软件,进行无标样分析,减少对标样的依赖性
高灵敏电制冷Si(Li) 探测器技术, 仪器免维护和零费用运行
超大样品室,可容纳300mm400mm的样品
全自动校准,自动监测,自动报警系统,完全计算机控制
镀层和薄膜测量技术, 具有无标样分析测厚技术
ARL QUANT''X 应用

气溶胶颗粒滤膜
应对RoHS & WEEE 指令分析
刑侦以及痕量分析
营养添加剂
磁性磁性介质、半导体器件、PCB板等镀层镀膜(叠层)测厚及材料分析
高性能,操作简便WinTrace软件

直观
功能强大
安全
操作灵活,方便用户

【应 用】

【样品盘选件】 美国赛黙飞世尔ThermoFisher(美国热电)能量色散X-射线荧光光谱仪(ED-XRF)

技术参数
样品室 

样品类型 固体、粉末、液体、滤渣、镀层和其它 

尺寸 30.5cm(w)x38.9cm(D)x6.6cm(H)
增高室(选购件): 21.5cm或37.1cm
单位盘 样品可大至样品室大小
10位盘(选购件) 带自转机构,样品可大至47mm
20位盘(选购件) 样品可大至31mm
自动和手动盘 为特种样品用的样品盘,选购件
环境 空气、真空(选购件)和充氦(选购件)

激发
X-光管 超高通量,端窗,RH靶,76um铍窗,空气冷却,其它靶可选
X-光发生器 4-50KV,1KV间隔。O.02-2.OmA,0.02mA 间隔
滤光片 7种滤光片加1空位,自动选择
准直器(选购件) 1.0、2.0、3.5、6.8和8.8 五种

检测配置器
Si(Li)电致冷 Si(Li)面积15mm2,分辨率<155 eV
Si(Li)LN Si(Li)面积30mm2,分辨率<149 eV

数据采集
数字脉冲处理器 全部参数程序控制,自动能量校正
多道脉冲分析器 32位,4096道多道分析器
数据接口 计算机以太网接口

分析处理器和WinTrace
计算机/打印机 主流计算机和彩色打印机
显示 X-射线能谱,重叠谱比较,峰鉴定标记,分析参数
输出 监视器,图形打印机和调制解调器
自动化 样品室环境,X射线源输出,滤光片选择,多次激发条件,
和样品选择
谱处理 自动元素鉴定,数字滤波本底扣除,小二乘法经验峰去卷积,
总峰强度,和净峰强度
分析技术 经验系数法和基本参数法,归化,校正曲线图显示
操作系统 微软WindowsXP及更新的版本

尺寸和重量
外形尺寸 宽71.88cm,高41.15cm,深59.18cm
重量 90.7kg

使用要求
电源 100、115或230VAC,50或60hz,功率1000W,真空泵需2000W
电话 遥控诊断和遥控监测需要通过因特网连线

环境要求
温度 O~32℃
湿度 20~80%RH(无冷凝水)

参考方法
ASTM方法
D5839-96(2001) X-荧光能谱法测定危险废燃料中痕量元素的标准测试方法
D6052.97 X-荧光能谱法对液体危险废料中元素分析的标准测试方法

主要特点

超大Si(Li) 晶体,具有高的痕量分析的灵敏度,打破lng的检测限壁垒 

全数字脉冲处理器技术,死时间达60%, 以及优异的峰背比
高FP无标样分析软件,进行无标样分析,减少对标样的依赖性
高灵敏电制冷Si(Li) 探测器技术, 仪器免维护和零费用运行
超大样品室,可容纳300mm400mm的样品
全自动校准,自动监测,自动报警系统,完全计算机控制
镀层和薄膜测量技术, 具有无标样分析测厚技术
ARL QUANT''X 应用

气溶胶颗粒滤膜
应对RoHS & WEEE 指令分析
刑侦以及痕量分析
营养添加剂
磁性磁性介质、半导体器件、PCB板等镀层镀膜(叠层)测厚及材料分析
高性能,操作简便WinTrace软件

直观
功能强大
安全
操作灵活,方便用户

【应 用】

【样品盘选件】 美国赛黙飞世尔ThermoFisher(美国热电)能量色散X-射线荧光光谱仪(ED-XRF)

技术参数
样品室 

样品类型 固体、粉末、液体、滤渣、镀层和其它 

尺寸 30.5cm(w)x38.9cm(D)x6.6cm(H)
增高室(选购件): 21.5cm或37.1cm
单位盘 样品可大至样品室大小
10位盘(选购件) 带自转机构,样品可大至47mm
20位盘(选购件) 样品可大至31mm
自动和手动盘 为特种样品用的样品盘,选购件
环境 空气、真空(选购件)和充氦(选购件)

激发
X-光管 超高通量,端窗,RH靶,76um铍窗,空气冷却,其它靶可选
X-光发生器 4-50KV,1KV间隔。O.02-2.OmA,0.02mA 间隔
滤光片 7种滤光片加1空位,自动选择
准直器(选购件) 1.0、2.0、3.5、6.8和8.8 五种

检测配置器
Si(Li)电致冷 Si(Li)面积15mm2,分辨率<155 eV
Si(Li)LN Si(Li)面积30mm2,分辨率<149 eV

数据采集
数字脉冲处理器 全部参数程序控制,自动能量校正
多道脉冲分析器 32位,4096道多道分析器
数据接口 计算机以太网接口

分析处理器和WinTrace
计算机/打印机 主流计算机和彩色打印机
显示 X-射线能谱,重叠谱比较,峰鉴定标记,分析参数
输出 监视器,图形打印机和调制解调器
自动化 样品室环境,X射线源输出,滤光片选择,多次激发条件,
和样品选择
谱处理 自动元素鉴定,数字滤波本底扣除,小二乘法经验峰去卷积,
总峰强度,和净峰强度
分析技术 经验系数法和基本参数法,归化,校正曲线图显示
操作系统 微软WindowsXP及更新的版本

尺寸和重量
外形尺寸 宽71.88cm,高41.15cm,深59.18cm
重量 90.7kg

使用要求
电源 100、115或230VAC,50或60hz,功率1000W,真空泵需2000W
电话 遥控诊断和遥控监测需要通过因特网连线

环境要求
温度 O~32℃
湿度 20~80%RH(无冷凝水)

参考方法
ASTM方法
D5839-96(2001) X-荧光能谱法测定危险废燃料中痕量元素的标准测试方法
D6052.97 X-荧光能谱法对液体危险废料中元素分析的标准测试方法

主要特点

超大Si(Li) 晶体,具有高的痕量分析的灵敏度,打破lng的检测限壁垒 

全数字脉冲处理器技术,死时间达60%, 以及优异的峰背比
高FP无标样分析软件,进行无标样分析,减少对标样的依赖性
高灵敏电制冷Si(Li) 探测器技术, 仪器免维护和零费用运行
超大样品室,可容纳300mm400mm的样品
全自动校准,自动监测,自动报警系统,完全计算机控制
镀层和薄膜测量技术, 具有无标样分析测厚技术
ARL QUANT''X 应用

气溶胶颗粒滤膜
应对RoHS & WEEE 指令分析
刑侦以及痕量分析
营养添加剂
磁性磁性介质、半导体器件、PCB板等镀层镀膜(叠层)测厚及材料分析
高性能,操作简便WinTrace软件

直观
功能强大
安全
操作灵活,方便用户

【应 用】

【样品盘选件】 美国赛黙飞世尔ThermoFisher(美国热电)能量色散X-射线荧光光谱仪(ED-XRF)

技术参数
样品室 

样品类型 固体、粉末、液体、滤渣、镀层和其它 

尺寸 30.5cm(w)x38.9cm(D)x6.6cm(H)
增高室(选购件): 21.5cm或37.1cm
单位盘 样品可大至样品室大小
10位盘(选购件) 带自转机构,样品可大至47mm
20位盘(选购件) 样品可大至31mm
自动和手动盘 为特种样品用的样品盘,选购件
环境 空气、真空(选购件)和充氦(选购件)

激发
X-光管 超高通量,端窗,RH靶,76um铍窗,空气冷却,其它靶可选
X-光发生器 4-50KV,1KV间隔。O.02-2.OmA,0.02mA 间隔
滤光片 7种滤光片加1空位,自动选择
准直器(选购件) 1.0、2.0、3.5、6.8和8.8 五种

检测配置器
Si(Li)电致冷 Si(Li)面积15mm2,分辨率<155 eV
Si(Li)LN Si(Li)面积30mm2,分辨率<149 eV

数据采集
数字脉冲处理器 全部参数程序控制,自动能量校正
多道脉冲分析器 32位,4096道多道分析器
数据接口 计算机以太网接口

分析处理器和WinTrace
计算机/打印机 主流计算机和彩色打印机
显示 X-射线能谱,重叠谱比较,峰鉴定标记,分析参数
输出 监视器,图形打印机和调制解调器
自动化 样品室环境,X射线源输出,滤光片选择,多次激发条件,
和样品选择
谱处理 自动元素鉴定,数字滤波本底扣除,小二乘法经验峰去卷积,
总峰强度,和净峰强度
分析技术 经验系数法和基本参数法,归化,校正曲线图显示
操作系统 微软WindowsXP及更新的版本

尺寸和重量
外形尺寸 宽71.88cm,高41.15cm,深59.18cm
重量 90.7kg

使用要求
电源 100、115或230VAC,50或60hz,功率1000W,真空泵需2000W
电话 遥控诊断和遥控监测需要通过因特网连线

环境要求
温度 O~32℃
湿度 20~80%RH(无冷凝水)

参考方法
ASTM方法
D5839-96(2001) X-荧光能谱法测定危险废燃料中痕量元素的标准测试方法
D6052.97 X-荧光能谱法对液体危险废料中元素分析的标准测试方法

主要特点

超大Si(Li) 晶体,具有高的痕量分析的灵敏度,打破lng的检测限壁垒 

全数字脉冲处理器技术,死时间达60%, 以及优异的峰背比
高FP无标样分析软件,进行无标样分析,减少对标样的依赖性
高灵敏电制冷Si(Li) 探测器技术, 仪器免维护和零费用运行
超大样品室,可容纳300mm400mm的样品
全自动校准,自动监测,自动报警系统,完全计算机控制
镀层和薄膜测量技术, 具有无标样分析测厚技术
ARL QUANT''X 应用

气溶胶颗粒滤膜
应对RoHS & WEEE 指令分析
刑侦以及痕量分析
营养添加剂
磁性磁性介质、半导体器件、PCB板等镀层镀膜(叠层)测厚及材料分析
高性能,操作简便WinTrace软件

直观
功能强大
安全
操作灵活,方便用户

【应 用】

【样品盘选件】 美国赛黙飞世尔ThermoFisher(美国热电)能量色散X-射线荧光光谱仪(ED-XRF)

技术参数
样品室 

样品类型 固体、粉末、液体、滤渣、镀层和其它 

尺寸 30.5cm(w)x38.9cm(D)x6.6cm(H)
增高室(选购件): 21.5cm或37.1cm
单位盘 样品可大至样品室大小
10位盘(选购件) 带自转机构,样品可大至47mm
20位盘(选购件) 样品可大至31mm
自动和手动盘 为特种样品用的样品盘,选购件
环境 空气、真空(选购件)和充氦(选购件)

激发
X-光管 超高通量,端窗,RH靶,76um铍窗,空气冷却,其它靶可选
X-光发生器 4-50KV,1KV间隔。O.02-2.OmA,0.02mA 间隔
滤光片 7种滤光片加1空位,自动选择
准直器(选购件) 1.0、2.0、3.5、6.8和8.8 五种

检测配置器
Si(Li)电致冷 Si(Li)面积15mm2,分辨率<155 eV
Si(Li)LN Si(Li)面积30mm2,分辨率<149 eV

数据采集
数字脉冲处理器 全部参数程序控制,自动能量校正
多道脉冲分析器 32位,4096道多道分析器
数据接口 计算机以太网接口

分析处理器和WinTrace
计算机/打印机 主流计算机和彩色打印机
显示 X-射线能谱,重叠谱比较,峰鉴定标记,分析参数
输出 监视器,图形打印机和调制解调器
自动化 样品室环境,X射线源输出,滤光片选择,多次激发条件,
和样品选择
谱处理 自动元素鉴定,数字滤波本底扣除,小二乘法经验峰去卷积,
总峰强度,和净峰强度
分析技术 经验系数法和基本参数法,归化,校正曲线图显示
操作系统 微软WindowsXP及更新的版本

尺寸和重量
外形尺寸 宽71.88cm,高41.15cm,深59.18cm
重量 90.7kg

使用要求
电源 100、115或230VAC,50或60hz,功率1000W,真空泵需2000W
电话 遥控诊断和遥控监测需要通过因特网连线

环境要求
温度 O~32℃
湿度 20~80%RH(无冷凝水)

参考方法
ASTM方法
D5839-96(2001) X-荧光能谱法测定危险废燃料中痕量元素的标准测试方法
D6052.97 X-荧光能谱法对液体危险废料中元素分析的标准测试方法

主要特点

超大Si(Li) 晶体,具有高的痕量分析的灵敏度,打破lng的检测限壁垒 

全数字脉冲处理器技术,死时间达60%, 以及优异的峰背比
高FP无标样分析软件,进行无标样分析,减少对标样的依赖性
高灵敏电制冷Si(Li) 探测器技术, 仪器免维护和零费用运行
超大样品室,可容纳300mm400mm的样品
全自动校准,自动监测,自动报警系统,完全计算机控制
镀层和薄膜测量技术, 具有无标样分析测厚技术
ARL QUANT''X 应用

气溶胶颗粒滤膜
应对RoHS & WEEE 指令分析
刑侦以及痕量分析
营养添加剂
磁性磁性介质、半导体器件、PCB板等镀层镀膜(叠层)测厚及材料分析
高性能,操作简便WinTrace软件

直观
功能强大
安全
操作灵活,方便用户

【应 用】

【样品盘选件】 美国赛黙飞世尔ThermoFisher(美国热电)能量色散X-射线荧光光谱仪(ED-XRF)

技术参数
样品室 

样品类型 固体、粉末、液体、滤渣、镀层和其它 

尺寸 30.5cm(w)x38.9cm(D)x6.6cm(H)
增高室(选购件): 21.5cm或37.1cm
单位盘 样品可大至样品室大小
10位盘(选购件) 带自转机构,样品可大至47mm
20位盘(选购件) 样品可大至31mm
自动和手动盘 为特种样品用的样品盘,选购件
环境 空气、真空(选购件)和充氦(选购件)

激发
X-光管 超高通量,端窗,RH靶,76um铍窗,空气冷却,其它靶可选
X-光发生器 4-50KV,1KV间隔。O.02-2.OmA,0.02mA 间隔
滤光片 7种滤光片加1空位,自动选择
准直器(选购件) 1.0、2.0、3.5、6.8和8.8 五种

检测配置器
Si(Li)电致冷 Si(Li)面积15mm2,分辨率<155 eV
Si(Li)LN Si(Li)面积30mm2,分辨率<149 eV

数据采集
数字脉冲处理器 全部参数程序控制,自动能量校正
多道脉冲分析器 32位,4096道多道分析器
数据接口 计算机以太网接口

分析处理器和WinTrace
计算机/打印机 主流计算机和彩色打印机
显示 X-射线能谱,重叠谱比较,峰鉴定标记,分析参数
输出 监视器,图形打印机和调制解调器
自动化 样品室环境,X射线源输出,滤光片选择,多次激发条件,
和样品选择
谱处理 自动元素鉴定,数字滤波本底扣除,小二乘法经验峰去卷积,
总峰强度,和净峰强度
分析技术 经验系数法和基本参数法,归化,校正曲线图显示
操作系统 微软WindowsXP及更新的版本

尺寸和重量
外形尺寸 宽71.88cm,高41.15cm,深59.18cm
重量 90.7kg

使用要求
电源 100、115或230VAC,50或60hz,功率1000W,真空泵需2000W
电话 遥控诊断和遥控监测需要通过因特网连线

环境要求
温度 O~32℃
湿度 20~80%RH(无冷凝水)

参考方法
ASTM方法
D5839-96(2001) X-荧光能谱法测定危险废燃料中痕量元素的标准测试方法
D6052.97 X-荧光能谱法对液体危险废料中元素分析的标准测试方法

主要特点

超大Si(Li) 晶体,具有高的痕量分析的灵敏度,打破lng的检测限壁垒 

全数字脉冲处理器技术,死时间达60%, 以及优异的峰背比
高FP无标样分析软件,进行无标样分析,减少对标样的依赖性
高灵敏电制冷Si(Li) 探测器技术, 仪器免维护和零费用运行
超大样品室,可容纳300mm400mm的样品
全自动校准,自动监测,自动报警系统,完全计算机控制
镀层和薄膜测量技术, 具有无标样分析测厚技术
ARL QUANT''X 应用

气溶胶颗粒滤膜
应对RoHS & WEEE 指令分析
刑侦以及痕量分析
营养添加剂
磁性磁性介质、半导体器件、PCB板等镀层镀膜(叠层)测厚及材料分析
高性能,操作简便WinTrace软件

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【应 用】

【样品盘选件】 美国赛黙飞世尔ThermoFisher(美国热电)能量色散X-射线荧光光谱仪(ED-XRF)

技术参数
样品室 

样品类型 固体、粉末、液体、滤渣、镀层和其它 

尺寸 30.5cm(w)x38.9cm(D)x6.6cm(H)
增高室(选购件): 21.5cm或37.1cm
单位盘 样品可大至样品室大小
10位盘(选购件) 带自转机构,样品可大至47mm
20位盘(选购件) 样品可大至31mm
自动和手动盘 为特种样品用的样品盘,选购件
环境 空气、真空(选购件)和充氦(选购件)

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X-光管 超高通量,端窗,RH靶,76um铍窗,空气冷却,其它靶可选
X-光发生器 4-50KV,1KV间隔。O.02-2.OmA,0.02mA 间隔
滤光片 7种滤光片加1空位,自动选择
准直器(选购件) 1.0、2.0、3.5、6.8和8.8 五种

检测配置器
Si(Li)电致冷 Si(Li)面积15mm2,分辨率<155 eV
Si(Li)LN Si(Li)面积30mm2,分辨率<149 eV

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数字脉冲处理器 全部参数程序控制,自动能量校正
多道脉冲分析器 32位,4096道多道分析器
数据接口 计算机以太网接口

分析处理器和WinTrace
计算机/打印机 主流计算机和彩色打印机
显示 X-射线能谱,重叠谱比较,峰鉴定标记,分析参数
输出 监视器,图形打印机和调制解调器
自动化 样品室环境,X射线源输出,滤光片选择,多次激发条件,
和样品选择
谱处理 自动元素鉴定,数字滤波本底扣除,小二乘法经验峰去卷积,
总峰强度,和净峰强度
分析技术 经验系数法和基本参数法,归化,校正曲线图显示
操作系统 微软WindowsXP及更新的版本

尺寸和重量
外形尺寸 宽71.88cm,高41.15cm,深59.18cm
重量 90.7kg

使用要求
电源 100、115或230VAC,50或60hz,功率1000W,真空泵需2000W
电话 遥控诊断和遥控监测需要通过因特网连线

环境要求
温度 O~32℃
湿度 20~80%RH(无冷凝水)

参考方法
ASTM方法
D5839-96(2001) X-荧光能谱法测定危险废燃料中痕量元素的标准测试方法
D6052.97 X-荧光能谱法对液体危险废料中元素分析的标准测试方法

主要特点

超大Si(Li) 晶体,具有高的痕量分析的灵敏度,打破lng的检测限壁垒 

全数字脉冲处理器技术,死时间达60%, 以及优异的峰背比
高FP无标样分析软件,进行无标样分析,减少对标样的依赖性
高灵敏电制冷Si(Li) 探测器技术, 仪器免维护和零费用运行
超大样品室,可容纳300mm400mm的样品
全自动校准,自动监测,自动报警系统,完全计算机控制
镀层和薄膜测量技术, 具有无标样分析测厚技术
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应对RoHS & WEEE 指令分析
刑侦以及痕量分析
营养添加剂
磁性磁性介质、半导体器件、PCB板等镀层镀膜(叠层)测厚及材料分析
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【样品盘选件】 美国赛黙飞世尔ThermoFisher(美国热电)能量色散X-射线荧光光谱仪(ED-XRF)

技术参数
样品室 

样品类型 固体、粉末、液体、滤渣、镀层和其它 

尺寸 30.5cm(w)x38.9cm(D)x6.6cm(H)
增高室(选购件): 21.5cm或37.1cm
单位盘 样品可大至样品室大小
10位盘(选购件) 带自转机构,样品可大至47mm
20位盘(选购件) 样品可大至31mm
自动和手动盘 为特种样品用的样品盘,选购件
环境 空气、真空(选购件)和充氦(选购件)

激发
X-光管 超高通量,端窗,RH靶,76um铍窗,空气冷却,其它靶可选
X-光发生器 4-50KV,1KV间隔。O.02-2.OmA,0.02mA 间隔
滤光片 7种滤光片加1空位,自动选择
准直器(选购件) 1.0、2.0、3.5、6.8和8.8 五种

检测配置器
Si(Li)电致冷 Si(Li)面积15mm2,分辨率<155 eV
Si(Li)LN Si(Li)面积30mm2,分辨率<149 eV

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计算机/打印机 主流计算机和彩色打印机
显示 X-射线能谱,重叠谱比较,峰鉴定标记,分析参数
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自动化 样品室环境,X射线源输出,滤光片选择,多次激发条件,
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谱处理 自动元素鉴定,数字滤波本底扣除,小二乘法经验峰去卷积,
总峰强度,和净峰强度
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外形尺寸 宽71.88cm,高41.15cm,深59.18cm
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电源 100、115或230VAC,50或60hz,功率1000W,真空泵需2000W
电话 遥控诊断和遥控监测需要通过因特网连线

环境要求
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湿度 20~80%RH(无冷凝水)

参考方法
ASTM方法
D5839-96(2001) X-荧光能谱法测定危险废燃料中痕量元素的标准测试方法
D6052.97 X-荧光能谱法对液体危险废料中元素分析的标准测试方法

主要特点

超大Si(Li) 晶体,具有高的痕量分析的灵敏度,打破lng的检测限壁垒 

全数字脉冲处理器技术,死时间达60%, 以及优异的峰背比
高FP无标样分析软件,进行无标样分析,减少对标样的依赖性
高灵敏电制冷Si(Li) 探测器技术, 仪器免维护和零费用运行
超大样品室,可容纳300mm400mm的样品
全自动校准,自动监测,自动报警系统,完全计算机控制
镀层和薄膜测量技术, 具有无标样分析测厚技术
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刑侦以及痕量分析
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【样品盘选件】 美国赛黙飞世尔ThermoFisher(美国热电)能量色散X-射线荧光光谱仪(ED-XRF)

技术参数
样品室 

样品类型 固体、粉末、液体、滤渣、镀层和其它 

尺寸 30.5cm(w)x38.9cm(D)x6.6cm(H)
增高室(选购件): 21.5cm或37.1cm
单位盘 样品可大至样品室大小
10位盘(选购件) 带自转机构,样品可大至47mm
20位盘(选购件) 样品可大至31mm
自动和手动盘 为特种样品用的样品盘,选购件
环境 空气、真空(选购件)和充氦(选购件)

激发
X-光管 超高通量,端窗,RH靶,76um铍窗,空气冷却,其它靶可选
X-光发生器 4-50KV,1KV间隔。O.02-2.OmA,0.02mA 间隔
滤光片 7种滤光片加1空位,自动选择
准直器(选购件) 1.0、2.0、3.5、6.8和8.8 五种

检测配置器
Si(Li)电致冷 Si(Li)面积15mm2,分辨率<155 eV
Si(Li)LN Si(Li)面积30mm2,分辨率<149 eV

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数字脉冲处理器 全部参数程序控制,自动能量校正
多道脉冲分析器 32位,4096道多道分析器
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计算机/打印机 主流计算机和彩色打印机
显示 X-射线能谱,重叠谱比较,峰鉴定标记,分析参数
输出 监视器,图形打印机和调制解调器
自动化 样品室环境,X射线源输出,滤光片选择,多次激发条件,
和样品选择
谱处理 自动元素鉴定,数字滤波本底扣除,小二乘法经验峰去卷积,
总峰强度,和净峰强度
分析技术 经验系数法和基本参数法,归化,校正曲线图显示
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尺寸和重量
外形尺寸 宽71.88cm,高41.15cm,深59.18cm
重量 90.7kg

使用要求
电源 100、115或230VAC,50或60hz,功率1000W,真空泵需2000W
电话 遥控诊断和遥控监测需要通过因特网连线

环境要求
温度 O~32℃
湿度 20~80%RH(无冷凝水)

参考方法
ASTM方法
D5839-96(2001) X-荧光能谱法测定危险废燃料中痕量元素的标准测试方法
D6052.97 X-荧光能谱法对液体危险废料中元素分析的标准测试方法

主要特点

超大Si(Li) 晶体,具有高的痕量分析的灵敏度,打破lng的检测限壁垒 

全数字脉冲处理器技术,死时间达60%, 以及优异的峰背比
高FP无标样分析软件,进行无标样分析,减少对标样的依赖性
高灵敏电制冷Si(Li) 探测器技术, 仪器免维护和零费用运行
超大样品室,可容纳300mm400mm的样品
全自动校准,自动监测,自动报警系统,完全计算机控制
镀层和薄膜测量技术, 具有无标样分析测厚技术
ARL QUANT''X 应用

气溶胶颗粒滤膜
应对RoHS & WEEE 指令分析
刑侦以及痕量分析
营养添加剂
磁性磁性介质、半导体器件、PCB板等镀层镀膜(叠层)测厚及材料分析
高性能,操作简便WinTrace软件

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【应 用】

【样品盘选件】 美国赛黙飞世尔ThermoFisher(美国热电)能量色散X-射线荧光光谱仪(ED-XRF)

技术参数
样品室 

样品类型 固体、粉末、液体、滤渣、镀层和其它 

尺寸 30.5cm(w)x38.9cm(D)x6.6cm(H)
增高室(选购件): 21.5cm或37.1cm
单位盘 样品可大至样品室大小
10位盘(选购件) 带自转机构,样品可大至47mm
20位盘(选购件) 样品可大至31mm
自动和手动盘 为特种样品用的样品盘,选购件
环境 空气、真空(选购件)和充氦(选购件)

激发
X-光管 超高通量,端窗,RH靶,76um铍窗,空气冷却,其它靶可选
X-光发生器 4-50KV,1KV间隔。O.02-2.OmA,0.02mA 间隔
滤光片 7种滤光片加1空位,自动选择
准直器(选购件) 1.0、2.0、3.5、6.8和8.8 五种

检测配置器
Si(Li)电致冷 Si(Li)面积15mm2,分辨率<155 eV
Si(Li)LN Si(Li)面积30mm2,分辨率<149 eV

数据采集
数字脉冲处理器 全部参数程序控制,自动能量校正
多道脉冲分析器 32位,4096道多道分析器
数据接口 计算机以太网接口

分析处理器和WinTrace
计算机/打印机 主流计算机和彩色打印机
显示 X-射线能谱,重叠谱比较,峰鉴定标记,分析参数
输出 监视器,图形打印机和调制解调器
自动化 样品室环境,X射线源输出,滤光片选择,多次激发条件,
和样品选择
谱处理 自动元素鉴定,数字滤波本底扣除,小二乘法经验峰去卷积,
总峰强度,和净峰强度
分析技术 经验系数法和基本参数法,归化,校正曲线图显示
操作系统 微软WindowsXP及更新的版本

尺寸和重量
外形尺寸 宽71.88cm,高41.15cm,深59.18cm
重量 90.7kg

使用要求
电源 100、115或230VAC,50或60hz,功率1000W,真空泵需2000W
电话 遥控诊断和遥控监测需要通过因特网连线

环境要求
温度 O~32℃
湿度 20~80%RH(无冷凝水)

参考方法
ASTM方法
D5839-96(2001) X-荧光能谱法测定危险废燃料中痕量元素的标准测试方法
D6052.97 X-荧光能谱法对液体危险废料中元素分析的标准测试方法

主要特点

超大Si(Li) 晶体,具有高的痕量分析的灵敏度,打破lng的检测限壁垒 

全数字脉冲处理器技术,死时间达60%, 以及优异的峰背比
高FP无标样分析软件,进行无标样分析,减少对标样的依赖性
高灵敏电制冷Si(Li) 探测器技术, 仪器免维护和零费用运行
超大样品室,可容纳300mm400mm的样品
全自动校准,自动监测,自动报警系统,完全计算机控制
镀层和薄膜测量技术, 具有无标样分析测厚技术
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气溶胶颗粒滤膜
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