光学频率梳光梳合成器
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品牌名称：$brandModel.Title(进口品牌)型号：EFO-COMB 原产地：中国大陆 发布时间：2021/1/6 11:03:07更新时间：2024/11/8 15:29:21
产品摘要：EFO-COMB光学频率梳光梳合成器EFO-COMB光学频率梳光梳合成器基于飞锁模铒掺杂PM光纤激光器，具有4个PM光纤耦合输出，包括用于产生超连续谱的掺Er光纤放大器，以及带有同步和锁定电子器件的f-2f干涉仪。
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详细内容
EFO-COMB光学频率梳光梳合成器
EFO-COMB光学频率梳光梳合成器
产品介绍
EFO-COMB光学频率梳光梳合成器
EFO-COMB光学频率梳光梳合成器基于飞锁模铒掺杂PM光纤激光器，具有4个PM光纤耦合输出，包括用于产生超连续谱的掺Er光纤放大器，以及带有同步和锁定电子器件的f-2f干涉仪。
全光纤PM方案
全天候运营
完整的单源频梳系统
520-2200 nm全光谱覆盖范围
产品参数
EFO-COMB光学频率梳光梳合成器将飞锁模掺铒光纤激光器与4个光纤耦合激光器输出，带有超连续谱发生器的光纤放大器和f-2f干涉仪相结合。全PM光纤方案可确保系统不间断运行。EFO-COMB可以为每种情况单独配置单独的控制架，包括控制和电源单元，相位偏移调谐单元，数据收集和可视化单元以及许多其他可能的选项。
该系统还可配备：1560 nm的光纤放大器，780 nm输出的SHG单元，1000-2200 nm的超连续谱发生器，520-1000 nm的超连续谱发生器，差频发生器（DFG）。
产品规格:
规格
EFO-COMB
梳齿间距 （Frep） 100 MHz
稳定性（连接微波参考源） <5·10 ^ -13@1s或与参考相同
调整梳齿间距范围 > 0.7 MHz
调整偏移频率Fceo的范围 > 100 MHz
光输出
2或4个光纤耦合输出端口或准直自由空间输出，1560 nm，520-1000 nm，1000-2200 nm
其他波长可根据要求提供（可选）
中心波长（固定） 1560±10nm
全光谱覆盖范围（附加选项） 520-1000 nm，1000-2200 nm，其他波长可根据要求提供
输出功率 每个输出> 5 mW;
> 150 mW @ 1560 nm（可选）;
> 200 mW @ 1000-2200 nm（可选）;
> 80 mW @ 520-1000 nm（可选）
光学单元尺寸（长x宽x高） 356 x 492 x 110mm
控制架尺寸（宽x长） 640 x 553 mm（机架高度取决于较精确配置）
参考文献：
Article: Methane based microwave reference oscillator
Article: Femtosecond optical-to-microwave frequency divider with a relative instability of 10^-14 to 10^-16 (t=1-100 s)
Article: Application in an Optical Clock System
Article: Femtosecond Er3+ fiber laser for application in an optical clock
EFO-COMB光学频率梳光梳合成器
EFO-COMB光学频率梳光梳合成器
产品介绍
EFO-COMB光学频率梳光梳合成器
EFO-COMB光学频率梳光梳合成器基于飞锁模铒掺杂PM光纤激光器，具有4个PM光纤耦合输出，包括用于产生超连续谱的掺Er光纤放大器，以及带有同步和锁定电子器件的f-2f干涉仪。
全光纤PM方案
全天候运营
完整的单源频梳系统
520-2200 nm全光谱覆盖范围
产品参数
EFO-COMB光学频率梳光梳合成器将飞锁模掺铒光纤激光器与4个光纤耦合激光器输出，带有超连续谱发生器的光纤放大器和f-2f干涉仪相结合。全PM光纤方案可确保系统不间断运行。EFO-COMB可以为每种情况单独配置单独的控制架，包括控制和电源单元，相位偏移调谐单元，数据收集和可视化单元以及许多其他可能的选项。
该系统还可配备：1560 nm的光纤放大器，780 nm输出的SHG单元，1000-2200 nm的超连续谱发生器，520-1000 nm的超连续谱发生器，差频发生器（DFG）。
产品规格:
规格
EFO-COMB
梳齿间距 （Frep） 100 MHz
稳定性（连接微波参考源） <5·10 ^ -13@1s或与参考相同
调整梳齿间距范围 > 0.7 MHz
调整偏移频率Fceo的范围 > 100 MHz
光输出
2或4个光纤耦合输出端口或准直自由空间输出，1560 nm，520-1000 nm，1000-2200 nm
其他波长可根据要求提供（可选）
中心波长（固定） 1560±10nm
全光谱覆盖范围（附加选项） 520-1000 nm，1000-2200 nm，其他波长可根据要求提供
输出功率 每个输出> 5 mW;
> 150 mW @ 1560 nm（可选）;
> 200 mW @ 1000-2200 nm（可选）;
> 80 mW @ 520-1000 nm（可选）
光学单元尺寸（长x宽x高） 356 x 492 x 110mm
控制架尺寸（宽x长） 640 x 553 mm（机架高度取决于较精确配置）
参考文献：
Article: Methane based microwave reference oscillator
Article: Femtosecond optical-to-microwave frequency divider with a relative instability of 10^-14 to 10^-16 (t=1-100 s)
Article: Application in an Optical Clock System
Article: Femtosecond Er3+ fiber laser for application in an optical clock
EFO-COMB光学频率梳光梳合成器
EFO-COMB光学频率梳光梳合成器
产品介绍
EFO-COMB光学频率梳光梳合成器
EFO-COMB光学频率梳光梳合成器基于飞锁模铒掺杂PM光纤激光器，具有4个PM光纤耦合输出，包括用于产生超连续谱的掺Er光纤放大器，以及带有同步和锁定电子器件的f-2f干涉仪。
全光纤PM方案
全天候运营
完整的单源频梳系统
520-2200 nm全光谱覆盖范围
产品参数
EFO-COMB光学频率梳光梳合成器将飞锁模掺铒光纤激光器与4个光纤耦合激光器输出，带有超连续谱发生器的光纤放大器和f-2f干涉仪相结合。全PM光纤方案可确保系统不间断运行。EFO-COMB可以为每种情况单独配置单独的控制架，包括控制和电源单元，相位偏移调谐单元，数据收集和可视化单元以及许多其他可能的选项。
该系统还可配备：1560 nm的光纤放大器，780 nm输出的SHG单元，1000-2200 nm的超连续谱发生器，520-1000 nm的超连续谱发生器，差频发生器（DFG）。
产品规格:
规格
EFO-COMB
梳齿间距 （Frep） 100 MHz
稳定性（连接微波参考源） <5·10 ^ -13@1s或与参考相同
调整梳齿间距范围 > 0.7 MHz
调整偏移频率Fceo的范围 > 100 MHz
光输出
2或4个光纤耦合输出端口或准直自由空间输出，1560 nm，520-1000 nm，1000-2200 nm
其他波长可根据要求提供（可选）
中心波长（固定） 1560±10nm
全光谱覆盖范围（附加选项） 520-1000 nm，1000-2200 nm，其他波长可根据要求提供
输出功率 每个输出> 5 mW;
> 150 mW @ 1560 nm（可选）;
> 200 mW @ 1000-2200 nm（可选）;
> 80 mW @ 520-1000 nm（可选）
光学单元尺寸（长x宽x高） 356 x 492 x 110mm
控制架尺寸（宽x长） 640 x 553 mm（机架高度取决于较精确配置）
参考文献：
Article: Methane based microwave reference oscillator
Article: Femtosecond optical-to-microwave frequency divider with a relative instability of 10^-14 to 10^-16 (t=1-100 s)
Article: Application in an Optical Clock System
Article: Femtosecond Er3+ fiber laser for application in an optical clock
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