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离子束处理过程中样品位置固定，无需偏转运动，无投影效应，热传导性好
可进行离子束切割或刻蚀，可选择任意离子枪
真空泵解耦合设计，无震动传导
触摸屏操作面板，直观、简易操作，可编程科软件升
可选配：液氮制冷冷台-150℃至30℃，25L液氮罐及自动泵，具有自动快速制冷功能
可选配：三样品台，可一次连续处理三个样品
可选配：旋转样品台，用于对样品进行离子束抛光
可容纳大样品尺寸50*50*10mm，可获得有效切割截面面积>4mm*1mm 三把离子枪，离子束能量1Kev-10Kev，切割速率150um/h
离子束处理过程中样品位置固定，无需偏转运动，无投影效应，热传导性好
可进行离子束切割或刻蚀，可选择任意离子枪
真空泵解耦合设计，无震动传导
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可选配：液氮制冷冷台-150℃至30℃，25L液氮罐及自动泵，具有自动快速制冷功能
可选配：三样品台，可一次连续处理三个样品
可选配：旋转样品台，用于对样品进行离子束抛光
可容纳大样品尺寸50*50*10mm，可获得有效切割截面面积>4mm*1mm 三把离子枪，离子束能量1Kev-10Kev，切割速率150um/h
离子束处理过程中样品位置固定，无需偏转运动，无投影效应，热传导性好
可进行离子束切割或刻蚀，可选择任意离子枪
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可选配：液氮制冷冷台-150℃至30℃，25L液氮罐及自动泵，具有自动快速制冷功能
可选配：三样品台，可一次连续处理三个样品
可选配：旋转样品台，用于对样品进行离子束抛光
