产品展示
优质供应
详细内容
• 通过利用常规过程数据和有技术重新设计了易用性
• 通过在负载锁定室中安装暗盒机构(可选)来提高生产率
• zui大基板传送尺寸为Φ300mm(在中心Φ200mm处保证了厚度分布)。
• 支持堆叠/同时溅射多个阴
• 通过触摸屏和配方输入自动处理,节省了人工
• 可以记录数据
产品应用:
• 电成膜/多层电及同时成膜应用
• 形成狄登膜,绝缘膜,钝化膜,保护膜等
• 用于电子零件和小规模生产的研发产品特性:
• 通过利用常规过程数据和有技术重新设计了易用性
• 通过在负载锁定室中安装暗盒机构(可选)来提高生产率
• zui大基板传送尺寸为Φ300mm(在中心Φ200mm处保证了厚度分布)。
• 支持堆叠/同时溅射多个阴
• 通过触摸屏和配方输入自动处理,节省了人工
• 可以记录数据
产品应用:
• 电成膜/多层电及同时成膜应用
• 形成狄登膜,绝缘膜,钝化膜,保护膜等
• 用于电子零件和小规模生产的研发产品特性:
• 通过利用常规过程数据和有技术重新设计了易用性
• 通过在负载锁定室中安装暗盒机构(可选)来提高生产率
• zui大基板传送尺寸为Φ300mm(在中心Φ200mm处保证了厚度分布)。
• 支持堆叠/同时溅射多个阴
• 通过触摸屏和配方输入自动处理,节省了人工
• 可以记录数据
产品应用:
• 电成膜/多层电及同时成膜应用
• 形成狄登膜,绝缘膜,钝化膜,保护膜等
• 用于电子零件和小规模生产的研发