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京迈研3506 氧化镍靶材 NiO磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
点击次数:41发布时间:2022/1/17 14:39:30
更新日期:2022/2/24 15:52:07
所 在 地:中国大陆
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优质供应
详细内容
京迈研3506 氧化镍靶材 NiO磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
【参数说明】
支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!!
【产品介绍】
氧化镍是一种无机物,化学式为NiO,分子量74.71,为绿黑色立方晶体。溶于酸和氨水,不溶于水。受热时颜色变黄。由镍与氧在大于400℃时作用而得,或由碳酸镍在 350℃热解制得。用于制合金、蓄电池、玻璃、搪瓷、陶瓷、电子元件、镍盐以及用作催化剂等。
中文名 | 氧化镍 | 熔点 | 1990 ℃ |
化学式 | NiO | CAS登录号 | 1313-99-1 |
分子量 | 74.71 | 密度 | 6.67g/cm³ |
【关于我们】
服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!
产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备
质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。
加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!
我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。
注 :高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!
建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。
我公司主营金属靶材、陶瓷靶材、合金靶材,欢迎您的垂询。