您的位置:易推广 > 其他产品/服务 > 其他产品/服务 > 其他产品/服务 > 北京京迈研材料科技有限公司 > 产品展示 > 靶材 > 京迈研3521 氧化铋靶材 Bi2O3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料

产品展示

京迈研3521 氧化铋靶材 Bi2O3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料

点击次数:50发布时间:2022/1/17 15:07:08

京迈研3521  氧化铋靶材  Bi2O3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料

更新日期:2022/1/17 15:07:08

所 在 地:中国大陆

产品型号:

简单介绍:京迈研3521 氧化铋靶材 Bi2O3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料

相关标签:氧化铋靶材 

优质供应

详细内容

 

京迈研3521  氧化铋靶材  Bi2O3磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料 

【参数说明】

支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!! 

【产品介绍】

氧化铋又称为三氧化二铋,其分子式Bi2O3的无机化合物,是铋重要的化合物,虽然三氧化二铋可以从天然的铋华(一种矿物)取得,但是它主要的来源通常是炼铜或铅时的副产物,或直接燃烧铋(蓝色火焰)得到。

中文名

氧化铋

熔点

824°C

化学式

Bi2O3

沸点

1890°C 

分子量

465.96

密度

8.9 g/cm3      

 

【关于我们】

服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!

产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 

质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 

加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!

我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。

 :高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!

建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。

我公司主营金属靶材、陶瓷靶材、合金靶材,欢迎您的垂询。

联系我们

联系人:杨杏林

点击查看联系方式

企业档案

  • 会员类型:免费会员
  • 工商认证: 【未认证】
  • 最后认证时间:
  • 法人:
  • 注册号:
  • 企业类型:生产商
  • 注册资金:人民币万

script>
在线咨询

提交