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京迈研3528 二氧化钒靶材 VO2磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
点击次数:52发布时间:2022/1/17 15:13:56
更新日期:2022/2/24 15:51:55
所 在 地:中国大陆
产品型号:
优质供应
详细内容
京迈研3528 二氧化钒靶材 VO2磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
【参数说明】
支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!!
【产品介绍】
深蓝色晶体粉末,单斜晶系结构。密度4.260 g/cm3。熔点1545 ℃。不溶于水,易溶于酸和碱中。溶于酸时不能生成四价离子,而生成正二价的钒氧离子。在干的氢气流中加热至赤热时被还原成三氧化二钒,溶于碱中生成亚钒酸盐。用作玻璃、陶瓷着色剂。
中文名 | 二氧化钒 | 熔 点 | 1,967 °C |
化学式 | VO₂ | 单斜晶密度 | 4.571 g/cm |
分子量 | 82.94 g/mol | 四方晶密度 | 京迈研34.653g/cm3 |
【关于我们】
服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!
产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备
质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。
加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!
我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。
注 :高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!
建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。
我公司主营金属靶材、陶瓷靶材、合金靶材,欢迎您的垂询。