企业档案
- 会员类型：免费会员
- 工商认证： 【未认证】
- 最后认证时间：
- 法人：
- 注册号：
- 企业类型：生产商
- 注册资金：人民币万
联系我们
联系人：吴则春
技术文章
ZnO纳米材料生长
点击次数：15 发布时间：2024/7/10 9:10:57
碳纳米膜制备设备由气体质量流量计控制系统、液体注液系统、多段温度可控多区生长系统、水冷却系统、碳纳米线或膜收集系统，红外烘干系统等组成。生长炉的温度1400℃，并可在0-1400℃之间连续可调，垂直式分布热场，三点控温(三段长度平均分配)，设备顶部设有注液口、导流器。炉体采用双层壳体结构并带有风冷系统，保温材料为加厚型，壳体表面温度小于60℃。采用高纯氧化铝管作为炉膛材料，加热元件为硅碳棒。测温采用适用于高温环境的“S”型热电偶，直接和式样接触，以提高控温的性。本款碳纳米管或膜CVD设备可以实现连续生长不间断的特点。
工作原理主要包括加热过程、真空抽取过程和气氛控制过程。在加热过程中，通过控制系统启动加热元件，将热量传递给炉膛内的物料，使其达到所需温度。同时，真空系统开始工作，抽取炉膛内的气体，创造高真空环境，避免物料与空气中氧气接触而产生的燃烧反应。在气氛控制过程中，通过向炉膛内通入特定气体(如惰性气体、还原性气体或氧化性气体)，实现气氛的调控，以满足不同材料的处理需求。
在多个域都有着广泛的应用。在金属材料处理方面，它可用于淬火、退火等工艺，提高材料的力学性能和稳定性。在陶瓷制造域，真空气氛炉可用于陶瓷材料的烧结和熔融，实现高质量陶瓷产品的生产。此外，在玻璃钢模具硬化等域，真空气氛炉也发挥着重要作用，提高了产品的硬度和耐磨性。
ZnO纳米材料生长
http://www.hfkpy.com/Products-38336994.html
https://www.chem17.com/st375393/product_38336994.html
原创作者：山东联超电子设备有限公司
