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深圳市科时达电子科技有限公司 主营产品:电子材料,半导体仪器设备,医疗设备三大产品领域的,是一家集研发,制造,为一体的企业我们的主营业务涉及了研发及加工电子材料及周边产品,电子光电产品设备研发组装及,半导体仪器设备,国内贸易,货物及技术进出口,医疗器械研发及,医用耗材及医疗用品的等

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美国恩科优N&Q系列光刻机4008

价格:¥电议

品牌名称:$brandModel.Title(进口品牌)型号: 原产地:中国大陆 发布时间:2022/2/14 15:03:46更新时间:2024/11/27 6:21:55

产品摘要:品牌:恩科优(N&Q)型号:NXQ400-8产地:美国恩科优光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中,N&Q4000系列光刻机是以半自动系统为主。该系统优越的操作性,超高的分辨率,均匀的光学系统,现代的接近式和接触式光刻及超高的性价比,使恩科优光刻系统已经被全国各地众多著名企业、研发中心、研究所和高校采用,并成为他们光刻系统的。

产品完善度: 访问次数:170

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参观次数:263497

手机网站:http://m.yituig.com/c162928/

商铺地址:http://www.szkesda.com

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解胶机

去胶机

显影仪/喷涂机

涂覆仪

匀胶机/热版机

离子刻蚀

镀膜沉积机

光刻机

详细内容

产品详情

品牌:恩科优(N&Q

型号:NXQ400-8

产地:美国



恩科优光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中,N&Q4000系列光刻机是以半自动系统为主。该系统优越的操作性,超高的分辨率,均匀的光学系统,现代的接近式和接触式光刻及超高的性价比,使恩科优光刻系统已经被全国各地众多著名企业、研发中心、研究所和高校采用,并成为他们光刻系统的;



二、技术参数:

1、芯片尺寸:5mm~200mm的圆片/方片和不规则碎片(支持对不规则碎片的特殊卡盘设计);

2、曝光波长:350nm-450nm(其它波长可选配);

3、汞灯功率:350W/500W(其它功率可选配);

4、分辨率:优于0.5um

5、曝光模式:支持接近式曝光,各种接触式(真空接触、软接触、硬接触等)曝光;

6、出射光强范围:10mW/cm2~55mW/cm2@405nm

7、支持恒定光强或恒定功率模式;

8、曝光时间:0.1~999.9s

9、对准精度:双高清彩色CCD + 双高清彩色监视器,对准精度可达到0.4微米内;

10、掩膜尺寸:2 x 2英寸到 9 x 9英寸(2 x 2英寸需要掩膜转换器

11、光强均匀性Uniformity

<±1% over 2 区域;

<±2% over 4 区域;

<±3% over 6 区域;

12、双面光刻:具备背面红外对准(IR BSA)和光学背面对准(OBS BSA),双面对准精度≤2μm

13、电源:高灵敏度光强可控电源。

可选型号:

NXQ400-6

NXQ400-8

NXQ800-6

NXQ8006 Sapphire

NXQ800-8


三、产品特点:

可选支持单面对准和双面对准设计;

高清晰彩色双CCD镜头采用的分裂视场显微镜镜头(基于无限远修正的CCD镜头设计);双头高清全彩物镜(单视场或分裂视场可供用户灵活选择);

高清彩色双显示屏;

全新气动轴承导轨设计,高精准,低磨损,无需售后维护的;

具有自动执行楔形误差补偿,并在找平后自动定位功能;

操作简易,具有支持多操作员同台使用的友好操作界面;

操控手柄调控模式的独特设计;

采用LED穿透物镜照明技术,具有超强对准亮度;

采用基于无限远修正的显微镜镜头架构;

抗衍射反射的高效光学光路设计;

带安全保护功能的温度和气流传感器;

全景准直透镜光线偏差半角: <1.84度;

设备稳定性,耐用性超高;



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